[实用新型]一种半导体元件防跪脚装置有效
申请号: | 201720046827.5 | 申请日: | 2017-01-16 |
公开(公告)号: | CN206413360U | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 顾道勤 | 申请(专利权)人: | 东莞市司姆特电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K13/02 | 分类号: | H05K13/02 |
代理公司: | 东莞市兴邦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)44389 | 代理人: | 饶钱 |
地址: | 523000 广东省东莞市石*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 元件 防跪脚 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及电子元件加工领域,特别涉及一种半导体元件防跪脚装置。
背景技术
在现有的电子元件加工中,在将半导体元件从元件管条取出贴合上电路板上时,半导体元件往往都是全部倒入元件盒内,这样的操作很容易造成元件引脚跪脚,从而导致元件没法插入电路板或元件损伤,最后造成生产成本的提升和浪费生产工时。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,针对上述问题,提供一种半导体元件防跪脚装置。
本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案为:
一种半导体元件防跪脚装置,其包括底座、高低位调节组件和元件导出组件,所述高低位调节组件设于所述底座上,所述元件导出组件可移动地设于所述高低位调节组件上,该元件导出组件包括支撑架、管条定位座和元件管夹,所述支撑架下端可移动地设于高低位调节组件上,该支撑架上端与所述管条定位座下端固定连接,该管条定位座上端向下倾斜,于该管条定位座上设有两条用于放置元件管条的长条状凹槽,于该凹槽前端设有导卡槽,所述元件管夹连接于所述管条定位座上端。
所述高低位调节组件包括调节固定座和调节螺丝,所述调节固定座上贯穿地设有两个高低位调节孔,所述调节螺丝设于该高低调节孔内,该调节螺丝后端与所述支撑架下端固定连接。
所述元件管夹中央设有用于固定元件管条的固定位,该元件管夹两端与所述管条定位座两端连接。
于所述管条定位座上对应所述元件管夹两端设有两个管夹螺丝,该管夹螺丝上设有调节弹簧,该管夹螺丝贯穿所述管条定位座与所述元件管夹下端固定连接。
两个所述高低位调节孔水平排列设置。
所述管条定位座前端设有第一突台。
于该导卡槽后端设有用于阻挡元件掉落的第二突台。
所述调节固定座上端为一向下倾斜平面。
本实用新型的有益效果为:本实用新型结构简单合理,设计巧妙,改善了使用元件时跪脚的问题,缩小了生产作业时间,以及提高了产品生产质量,为作业人员提供了操作便利。
下面结合附图与实施例,对本实用新型进一步说明。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的正视图。
具体实施方式
实施例:如图1和图2所示,本实用新型为一种半导体元件防跪脚装置,其包括底座1、高低位调节组件2和元件导出组件3,所述高低位调节组件2设于所述底座1上,所述元件导出组件3可移动地设于所述高低位调节组件2上,该元件导出组件3包括支撑架4、管条定位座5和元件管夹6,所述支撑架4下端可移动地设于高低位调节组件2上,该支撑架4上端与所述管条定位座5下端固定连接,该管条定位座5上端向下倾斜,于该管条定位座5上设有两条用于放置元件管条的长条状凹槽7,于该凹槽7前端设有导卡槽8,所述元件管夹6连接于所述管条定位座5上端。
所述高低位调节组件2包括调节固定座9和调节螺丝10,所述调节固定座9上贯穿地设有两个高低位调节孔11,所述调节螺丝10设于该高低位调节孔11内,该调节螺丝10后端与所述支撑架4下端固定连接。
所述元件管夹6中央设有用于固定元件管条的固定位12,该元件管夹6两端与所述管条定位座5两端连接。
于所述管条定位座5上对应所述元件管夹6两端设有两个管夹螺丝13,该管夹螺丝13上设有调节弹簧,该管夹螺丝13贯穿所述管条定位座5与所述元件管夹6下端固定连接。
两个所述高低位调节孔11水平排列设置。
所述管条定位座5前端设有第一突台14。
于该导卡槽8后端设有用于阻挡元件掉落的第二突台15。
所述调节固定座9上端为一向下倾斜平面。
将元件管条放入管条定位座5的凹槽7中,此时将元件管夹6压住元件管条的表面,从凹槽7前端的导卡槽8取出元件,此时另一元件将自动流动到导卡槽8位置,作业员可循环从导卡槽8取出元件。
本实用新型结构简单合理,设计巧妙,改善了使用元件时跪脚的问题,缩小了生产作业时间,以及提高了产品生产质量,为作业人员提供了操作便利。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。故凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型之形状、构造及原理所作的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围内。
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