[实用新型]一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，属于直写曝光机技术领域。

背景技术

直写曝光技术是近年来迅速发展起来的影像直接转移技术，以其工艺流程简单、生产效率高、制造成本低等特点，很快取代了传统的掩膜板式的光刻技术，成为在PCB和半导体等生产领域最重要和最普遍的技术。

但是，在现有技术的直写设备对PCB板进行双面曝光时，常常很难将板两面的图形进行精确对位，尤其对于内层板，由于内层板上没有定位孔的存在，更难以实现两面曝光图形的精确对位，造成曝光质量下降，严重时导致产品报废。

传统的对位方法-UV mark法可以解决这一问题。但是，一方面，该技术长时间被国外公司垄断，极大地限制了我国在直写曝光技术领域的科技发展，进而影响到相关领域的科技进步；另一方面，该技术的原理是在曝光一面图形的同时，利于紫外线在另一面一定位置做相应标记，用作该面曝光时的对位，这样的技术存在会在产品上造成无法消除的印迹而影响产品性能、在未曝光面留印迹会导致未曝光面受到污染、标记烙印边缘不够锐利而较难达到很高的对位精度、导致基板吸附不均而造成板面不平等问题。

另外，现有技术的直写设备在工作时，样品、曝光装置等部件呈完全曝露的状态，且曝光装置一般位于样品的上方，一方面待曝光的样品很容易受到外界环境的污染，造成曝光线条断路等影响产品质量的情况出现，另一方面，样品接受激光照射时的反应，会产生一定量的有害气体和粉尘，这些有害气体和粉尘对曝光装置和对位装置等设备产生腐蚀、堵塞、短路、通风不良等危害。

因此，迫切需要开发一种效果更好的技术以打破国外公司在该领域的长期垄断，并更好地解决对位不准、设备部件和样品易受污染等问题。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备。

本实用新型提供了一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方；所述载样装置包括透明真空吸盘和真空发生装置。

在一种实施方式中，所述透明真空吸盘和真空发生装置通过真空管路连接。

在一种实施方式中，所述透明真空吸盘包括盖板、底板、连接轴和密封圈。

在一种实施方式中，所述透明真空吸盘的底板为硬质透明材质，盖板为硬质透明材质或软质透明材质。

在一种实施方式中，所述透明真空吸盘的底板材质为钢化玻璃。

在一种实施方式中，所述透明真空吸盘的底板的表面平整度≤5μm。

在一种实施方式中，所述曝光装置、对准装置、载样装置的空间排列形式为自上而下依次为对准装置、载样装置、曝光装置，载样装置位于曝光装置和对准装置之间。

在一种实施方式中，所述箱体结构为一密闭箱体。

在一种实施方式中，所述曝光装置包括曝光镜头和曝光运动组件。

在一种实施方式中，所述曝光运动组件包括X、Y、Z 3个方向的导轨。曝光镜头可以在和曝光运动组件的配合下，实现X、Y、Z 3个方向的位置移动。

在一种实施方式中，所述对准装置包括对准相机和对准运动组件。

在一种实施方式中，所述曝光装置的曝光镜头为DMD组件或多棱镜组件。

在一种实施方式中，所述对准装置的对准相机为CCD相机。

本实用新型的优点和效果：

本实用新型的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备：

(1)实现了对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是实现了对于无定位孔存在的PCB板的内层板的双面曝光的图像精确对位。

(2)在定位过程中，使用已有图形中形状作为标记图形或使用添加标记图形作为定位用的标记，不会对板造成永久性的破坏。

(3)设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。

(4)本设备，当产品需要两面曝光时，本装置可以实现产品的两面精确对准。与传统的曝光系统从上方对基板进行曝光的装置相反，本实用新型的曝光系统位于装置下方，从下往上发射激光对基板进行曝光。