[实用新型]水质分析设备有效
申请号: | 201720056750.X | 申请日: | 2017-01-18 |
公开(公告)号: | CN207133272U | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 陈又铭 | 申请(专利权)人: | 总翔企业股份有限公司 |
主分类号: | G01N33/18 | 分类号: | G01N33/18;G01N1/38 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 徐秋平 |
地址: | 中国台湾高雄市苓雅*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水质 分析 设备 | ||
1.一种水质分析设备,其特征在于,用于透过将一清水与一药剂导入一水样中,以分析所述水样的水质,包括:
一分析槽,所述分析槽的内部具有一槽体空间,所述槽体空间具有一安全水位、一定量水位、一循环水位、一位置高点与一位置低点;
一低点排水管路,所述低点排水管路自所述槽体空间中的所述位置低点延伸至所述分析槽外;
一水样导入管路,所述水样导入管路自所述分析槽外延伸至所述槽体空间中的所述位置低点;
一循环管路,所述循环管路的两端分别自所述分析槽外延伸至所述槽体空间中的所述循环水位与所述位置低点;
一药剂导入管路,所述药剂导入管路的一端延伸而与所述循环管路连通;
一清水导入管路,所述清水导入管路自所述分析槽外延伸至所述槽体空间中的所述位置高点;以及
一分析模块,所述分析模块藉由对一水样导入阀体的控制令所述水样导入管路启动导入,将所述水样自所述位置低点导入所述槽体空间中,直到所述水样于所述槽体空间内的水位到达所述安全水位,接着,所述分析模块藉由对一循环泵的控制令所述循环管路启动循环,使所述循环管路中充满所述水样,而后,所述分析模块藉由对一低点排水阀体的控制令所述低点排水管路启动排水,直到所述槽体空间内的所述水样排出,此后,所述分析模块藉由对一清水导入阀体的控制令所述清水导入管路启动导入,将所述清水自所述位置高点导入所述槽体空间中,直到所述清水于所述槽体空间内的水位到达所述定量水位,之后,所述分析模块藉由对一循环泵的控制令所述循环管路启动循环,使所述循环管路中的所述水样与所述槽体空间的所述清水混合,所述分析模块还藉由对一药剂导入泵的控制令所述药剂导入管路启动导入,将所述药剂导入所述槽体空间,直到所述槽体空间内的所述清水、所述水样与所述药剂按比例混合生成一分析液体,藉以分析所述水样的水质。
2.如权利要求1所述的水质分析设备,其特征在于,还包括一安全排水管路与一定量排水管路,所述安全排水管路自所述槽体空间中的所述安全水位延伸至所述分析槽外,以于所述水样于所述槽体空间内的水位超过所述安全水位时排除所述水样,使所述水样于所述槽体空间内的水位到达所述安全水位;所述定量排水管路自所述槽体空间中的所述定量水位延伸至所述分析槽外,当所述清水于所述槽体空间内的水位超过所述定量水位时,所述分析模块藉由对一定量排水泵的控制令所述定量排水管路启动排水,直到所述清水于所述槽体空间内的水位到达所述定量水位。
3.如权利要求2所述的水质分析设备,其特征在于,所述循环管路设有所述循环泵,所述分析模块藉由对所述循环泵的控制,令所述循环管路启动循环;所述药剂导入管路设有所述药剂导入泵,所述分析模块藉由对所述药剂导入泵的控制,令所述药剂导入管路启动导入;所述定量排水管路设有所述定量排水泵,所述分析模块藉由对所述定量排水泵的控制,令所述定量排水管路启动排水。
4.如权利要求1所述的水质分析设备,其特征在于,所述分析槽具有一弧状内壁面,所述弧状内壁面延伸而形成所述槽体空间,所述清水导入管路在所述位置高点对准所述弧状内壁面,所述水质分析设备还包括一清洗模块,用于清洗分析槽的内部,当清洗所述分析槽的内部时,所述清洗模块令所述清水导入管路启动导入,将所述清水自所述位置高点流向所述弧状内壁面,而沿着所述弧状内壁面导入所述槽体空间,以在所述槽体空间中形成漩涡状的流体,直到完成所述分析槽内部的清洗。
5.如权利要求4所述的水质分析设备,其特征在于,还包括一化学清洗液导入管路,提供一化学清洗液,所述化学清洗液导入管路的一端延伸而与所述清水导入管路连通,当清洗所述分析槽内部时,所述清洗模块令所述化学清洗液导入管路启动导入,将所述化学清洗液自所述位置高点沿着所述弧状内壁面导入所述槽体空间,以在槽体空间中形成漩涡状的流体,直到完成所述分析槽内部的清洗。
6.如权利要求5所述的水质分析设备,其特征在于,所述化学清洗液导入管路设有一化学清洗液导入泵,所述分析模块藉由对所述化学清洗液导入泵的控制,令所述化学清洗液导入管路启动导入。
7.如权利要求6所述的水质分析设备,其特征在于,所述药剂导入管路自所述分析槽外延伸至所述槽体空间中的所述循环水位;所述化学清洗液导入管路自所述分析槽外延伸至所述槽体空间中的所述位置高点。
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