[实用新型]一种双银低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201720067343.9 | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN206408121U | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 宋保柱;王栋权 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人： | 孙仿卫,陈婷婷 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双银低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设在所述玻璃基体表面上的膜层，其特征在于：所述膜层由第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层自所述玻璃基体的表面向外依次层叠组成，其中，所述第一功能层的厚度与第二功能层的厚度之间的比值为1:3.6～1:6，所述第一介质层的厚度与第二介质层的厚度之间的比值为1:1.22～1:6；所述第一介质层的厚度与所述第三介质层的厚度之间的比值为1:0.8～1:3。
2.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层的厚度为1nm～5nm，所述第二功能层的厚度为10 nm～20nm。
3.根据权利要求2所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层、所述第二功能层均为银层。
4.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、所述第三介质层的厚度为30 nm～60nm。
5.根据权利要求4所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层的厚度为50 nm～80nm。
6.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第二介质层及第三介质层均为金属氧化层或氮化硅层。
7.根据权利要求6所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第二介质层均为氧化锌层，所述第三介质层为氮化硅层。
8.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层、第二阻挡层均为镍铬层，且所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度为1 nm～5nm。
9.根据权利要求1至8任一所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层依次通过磁控溅射而镀设在所述玻璃基体的表面上。
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