[实用新型]一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃。

背景技术

中空玻璃是将两片或多片玻璃以有效支撑均匀隔开并周边粘结密封，使玻璃层间形成有干燥气体空间的玻璃制品，其因具有良好的隔热、隔音、美观适用、并可降低建筑物自重等特性而作为一种新型的建筑材料。中空玻璃多种性能优越于普通双层玻璃，因此得到了世界各国的认可。

低辐射玻璃又称Low-E玻璃，是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的金属膜系，极大地降低了玻璃表面辐射率，玻璃辐射率能够从0.84降低到0.04～0.12，并提高了玻璃的光谱选择性。

中国标准光谱选择系数LSG为玻璃的可见光透过率除以玻璃的国标得热因子。现有技术生产的普通单银低辐射镀膜玻璃的中国标准光谱选择系数LSG在1.2-1.3之间，处于较低数值。也就是在获得相同的可见光透过率的情况下，现有技术得热因子更高；在获得相同得热因子的情况下，可见光透过率更低，使得遮阳性能与采光性能难以兼顾。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，目的在于使得单银低辐射镀膜中空玻璃对具有高可见光透过率的同时也具有较高的隔热性能，即提高单银低辐射镀膜中空玻璃的LSG值。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片、外玻璃基片、连接在所述内玻璃基片与外玻璃基片之间的中空层，所述外玻璃基片的内侧面镀有复合膜层，所述的复合膜层由底层氧化钛层、氧化锌层、银层、镍铬层、顶层氧化钛层自所述外玻璃基片的内侧面向内依次层叠而成，其中，所述底层氧化钛层的厚度为10nm~35nm；所述氧化锌层的厚度为4nm~10nm；所述银层的厚度为12nm~15nm；所述顶层氧化钛层的厚度为20nm~40nm。

优选地，所述镍铬层的厚度为1nm~10nm。

进一步地，所述镍铬层的厚度为4nm~6nm。

进一步地，所述底层氧化钛层的厚度为20nm~28nm。

进一步地，所述氧化锌层的厚度为4.5nm~6nm。

进一步地，所述顶层氧化钛层的厚度为28nm~38nm。

作为一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/

TiO2，各膜层的厚度分别为26nm/5nm/12.4nm/1.2nm /28.3nm。

作为另一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/

TiO2，各膜层的厚度分别为22nm/4.5nm/13.2nm/5.7nm/36nm。

作为另一种具体实施方式，所述的复合膜层的结构为TiO2/ZnO/Ag/NiCr/

TiO2，各膜层的厚度分别为20nm/4.7nm/12.8nm/4.1nm/38nm。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃的选择系数LSG可达到1.4~1.5，即在同等采光条件下，该镀膜中空玻璃的遮阳性能更好；在同等遮阳条件下，该镀膜中空玻璃的采光性能更好。

附图说明

附图1为本实用新型的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃的截面示意图。

其中：1、内玻璃基片；2中空层；3、外玻璃基片；

4、底层氧化钛（TiO₂）层；5、氧化锌（ZnO）层；6、银（Ag）层；7、镍铬（NiCr）层；8、顶层氧化钛（TiO₂）层。

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施例来对本实用新型的技术方案作进一步的阐述。

参见图1所示的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃截面示意图，高性能单银低辐射镀膜中空玻璃，包括内玻璃基片1、外玻璃基片3、连接在内玻璃基片1与外玻璃基片3之间的中空层2。外玻璃基片3的内侧表面镀有复合膜层，该复合膜层则由底层TiO₂层4、ZnO层5、Ag层6、NiCr层7、顶层TiO₂层8自所述外玻璃基片3的内侧面向内依次层叠而成。镀膜后的高性能单银低辐射镀膜中空玻璃结构为：内玻璃基片1/中空层2/底层TiO₂层4/ZnO层5/Ag层6/NiCr层7/顶层TiO₂层8/外玻璃基片3。