[实用新型]一种溶铜罐

说明书

技术领域

本实用新型涉及反应罐领域，特别涉及一种溶铜罐。

背景技术

在对一些物体镀铜时，需要在电解槽内加入硫酸铜溶液，在镀铜过程中，硫酸铜溶液会逐渐变稀释，而溶铜罐就是用来增加硫酸铜浓度的反应罐，罐体会连通电解槽，电解槽内浓度较稀的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后向罐体内加入氧化铜粉末，使氧化铜粉末与被稀释的硫酸铜溶液反应生成较浓的硫酸铜，再经过回流泵把较浓的硫酸铜溶液抽入电解槽内，以使电解槽能够较效率的对物件进行镀铜，而氧化铜粉末中可能会存在颗粒杂质，如果直接将溶铜罐内反应后的溶液抽入到电解槽内，则杂质颗粒会随着溶液进入到电解槽内，从而影响电解槽的镀铜效果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种溶铜罐，其能够滤除硫酸铜液中的杂质。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种溶铜罐，包括罐体、进口和出口，所述罐体一端与电解槽连通，另一端在出口处设有回流泵并通过回流泵连通至电解槽，所述罐体内设有若干与罐底连接的第一挡板,以及若干与灌顶连接的第二挡板,所述第二挡板与第一挡板间隔设置, 所述第一挡板靠近出口设置，且所述第一挡板、第二挡板与罐体之间均留有间隙，靠近所述出口的第一挡板和第二挡板之间设有过滤板，与所述过滤板相邻且位于过滤板远离出口的一侧的第一挡板靠近间隙的一端设有缓冲板，靠近所述出口的第二挡板上开设有凹槽，所述缓冲板倾斜向下设置并延伸至凹槽内，且所述缓冲板与凹槽的槽底之间有空隙。

通过上述方案，电解槽内的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后在出口处设有回流泵，把电解槽内反应后的溶液再次抽入到电解槽内，进口用于向罐体内加入氧化铜，当把氧化铜由进口加入到罐体内时，氧化铜会被第一挡板阻挡，使氧化铜和硫酸铜充分反应，分流槽用于使罐体内的溶液较均匀的通过间隙，从而使氧化铜和硫酸铜较均匀的反应，然后反应后的氧化铜经过第一挡板与罐体之间的间隙流入到第一挡板与第二挡板之间，再次通过第二挡板与罐体之间的间隙，依次循环而从罐体的一端流向出口处，如此在罐体内形成了折流，一方面可以增大氧化铜和硫酸铜在罐体内的反应时间，另一方面可以使氧化铜和硫酸铜更加均匀的混合，从而使氧化铜和硫酸铜较充分的反应，过滤板位于靠近出口的第一挡板和第二挡板之间，且第一挡板靠近出口设置，则第一挡板可以阻挡溶液直接从罐体中进入，而是先通过第一挡板与罐体的间隙，然后由于第一挡板的阻挡，硫酸铜溶液和氧化铜粉末不会直接到达处口处，而是会经过第一挡板和第二挡板之间的过滤板，在这个过程中，硫酸铜溶液中的一些杂质颗粒会被过滤板滤除，之后再经过第一挡板与罐体之间的间隙到达出口，则经过出口的硫酸铜溶液纯度会较高，进而使电解槽内的硫酸铜溶液比较纯净，溶液从第一挡板的间隙处落下时，会与罐体罐底的溶液发生强烈的撞击，从而产生较多的泡沫，而泡沫张力较大，经过长期的积累，泡沫会进入到过滤板内，从而影响过滤板的过滤效果，设有缓冲板用于减缓硫酸铜溶液与罐体内的溶液撞击，硫酸铜溶液会顺着缓冲板而运动至第一挡板上的凹槽内，溶液会先在凹槽内进行缓冲，然后顺着凹槽慢慢流下，使溶液不会直接与第二挡板的表面进行撞击，从而能使溶液沿着第二挡板缓慢的流下，减缓了泡沫的产生，从而能够使过滤板较效率的对溶液进行过滤。

进一步的，所述凹槽为圆弧槽。

通过上述方案，把凹槽设为圆弧槽，溶液通过缓冲板进入到圆弧槽内后，会由于冲力而沿着圆弧槽的槽壁较均匀的扩散，从而较大程度的缓冲了溶液的冲击力。

进一步的，所述圆弧槽位于缓冲板下方的部分为直面。

通过上述方案，若果不设有直面，溶液脱离圆弧槽时会由于冲力而脱离第二挡板，设有直面可以使溶液顺着直面而到达第二挡板的表面，当溶液脱离圆弧槽时，不会由于冲力而脱离第二挡板，能使溶液较顺利的沿着直面达到第二挡板的表面。

进一步的，所述直面上设有阻流板，所述阻流板向远离圆弧槽槽底的一端倾斜向上设置。

通过上述方案，设有阻流板可以减缓直面上溶液的流速，让直面上的溶液经过阻流板慢慢溢流出去，对溶液进行缓冲，使溶液能够较顺利的沿着第一挡板下滑。

进一步的，所述阻流板远离直面的一端位于圆弧槽内。

通过上述方案，这样设置，当溶液冲阻流板上溢流出来时，溶液会落到直面上，从而沿着直面到达第二挡板的表面。

进一步的，所述过滤板的上端与第一挡板等高。