[实用新型]一种显示器件结构

权利要求书

1.一种显示器件结构，其特征在于，包括：

基板；

器件层，设置在所述基板上，其中，所述器件层包括显示区域和边界区域，所述边界区域刻蚀有凹槽图案；

薄膜封装层，覆盖所述器件层的显示区域，并覆盖所述边界区域的所述凹槽图案靠近所述显示区域的一部分。

2.根据权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述凹槽图案刻蚀至所述基板。

3.根据权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述薄膜封装层包括：

无机层，覆盖所述器件层的显示区域，并覆盖所述凹槽图案靠近所述显示区域的一部分；

有机层，覆盖所述无机层。

4.根据权利要求3所述的显示器件结构，其特征在于，所述有机层仅覆盖所述器件层的显示区域上的无机层。

5.根据权利要求3或4所述的显示器件结构，其特征在于，所述无机层为氮化硅无机层、氧化铝无机层、氧化硅无机层、氧化钛无机层中至少一种。

6.根据权利要求1至4任一项所述的显示器件结构，其特征在于，所述器件层包括：

TFT器件层，设置在所述基板上；

有机发光层，设置在所述显示区域的所述TFT器件层上。

7.根据权利要求6所述的显示器件结构，其特征在于，所述基板与所述TFT器件层之间还设置有缓冲层。

8.根据权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述边界区域为距离边界80-120μm的区域。

9.根据权利要求1所述的显示器件结构，其特征在于，所述凹槽图案由凹槽阵列组成，所述凹槽阵列中各凹槽的横截面的形状包括以下至少之一：矩形、正方形、圆形、椭圆形、菱形。