[实用新型]一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机有效
申请号: | 201720077991.2 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN206648994U | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 刘爱华;马骁;安邦 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | G01N27/84 | 分类号: | G01N27/84 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人: | 刘秋芳,汪玮华 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 圆柱体 圆周 检测 探伤 | ||
技术领域
本实用新型属于磁粉探伤设备的技术领域,尤其涉及一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机。
背景技术
磁粉探伤,是通过磁粉在缺陷附近漏磁场中的堆积以检测铁磁性材料表面或近表面处缺陷的一种无损检测方法。将钢铁等磁性材料制作的工件予以磁化,利用其缺陷部位的漏磁能吸附磁粉的特征,依磁粉分布显示被探测物件表面缺陷和近表面缺陷的探伤方法。该探伤方法的特点是简便、显示直观。
传统的磁粉探伤机,只有磁轭脚部位可以进行转动,针对平面监测较为方便,但对于船舶轴系这类圆柱体圆周面检测时,由于无法形成较大的弧度面,检测十分不方便。且由于不方便的构造,探伤机易碰撞圆柱体的圆周面,检测十分不方便。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题在于针对上述存在的问题,提供一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机,可以形成较大的弧度面,便于对大型圆柱体圆周面进行检测。
本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机,包括探伤机本体和两个磁轭脚,所述两个磁轭脚对称设于所述探伤机本体底部两侧,其特征在于,探伤机本体底部两侧均设有第一连接部,所述两个磁轭脚均通过旋转连接件与所述第一连接部相连,所述旋转连接件的底部设有第二连接部,旋转连接件的顶部与第一连接部铰接相连,所述第二连接部与磁轭脚的顶部铰接相连。
按上述方案,所述第一连接部和第二连接部均为“T”型块状结构,第一、第二连接部中心位置的凸块朝下设置,所述旋转连接件和磁轭脚的顶部分别设有第一连接凹槽和第二连接凹槽,所述第一连接凹槽与第一连接部的凸块相配置,所述第二连接凹槽与第二连接部的凸块相配置。
本发明的有益效果是:提供一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机,探伤机本体和两个磁轭脚分别通过旋转连接件相连,磁轭脚可形成两阶转动,两个磁轭脚形成较大检测弧面,方便对圆柱体圆周面进行探伤,铰接相连可方便对磁轭脚进行收叠,缩小整体尺寸,便于携带。
附图说明
图1为本实用新型一个实施例的轴测图。
其中:1.探伤机本体,2.磁轭脚,3.旋转连接件,4.第一连接部,5.第二连接部,6.第一连接凹槽,7.第二连接凹槽。
具体实施方式
为更好地理解本实用新型,下面结合附图和实施例对本实用新型进一步的描述。
如图1所示,一种便于圆柱体圆周面检测的磁粉探伤机,包括探伤机本体1和两个磁轭脚2,两个磁轭脚对称设于探伤机本体底部两侧,探伤机本体底部两侧均设有第一连接部4,两个磁轭脚均通过旋转连接件3与所述第一连接部相连,旋转连接件的底部设有第二连接部5,旋转连接件的顶部与第一连接部铰接相连,第二连接部与磁轭脚的顶部铰接相连。
第一连接部和第二连接部均为“T”型块状结构,第一、第二连接部中心位置的凸块朝下设置,旋转连接件和磁轭脚的顶部分别设有第一连接凹槽6和第二连接凹槽7,第一连接凹槽与第一连接部的凸块相配置,第二连接凹槽与第二连接部的凸块相配置。
采用本磁粉探伤机进行检测时,通过磁轭脚探测被检测表面磁粉堆积情况,可以判断被检测构件表面是否存在裂纹。相对与传统的磁粉探伤机,本磁粉探伤机可以较为方便的探测大型圆柱体圆周面表面,通过旋转连接件的两阶铰连接机构,可以方便控制本磁粉探伤机在检测时可以形成较大的弧面。两阶铰连接的设置,可以增加磁轭脚的活动范围,方便面对不同直径圆时,进行调节。在检测时,首先调节旋转连接件与探伤机本体的铰连接机构,形成第一层弧面,再通过调节磁轭脚与旋转连接件的铰连接机构,进行更加细化控制,形成第二层弧面,有效的增加了磁粉探伤机在检测圆周面时的工作范围,提高了工作效率,同时,也可以避免磁轭脚垂直检测时,碰伤被检测件表面。通过设置第一、第二连接部,可以控制磁轭脚转动时的角度大小,避免过度的转动对探伤机带来的损害。当磁轭脚向上旋转时会受到第二连接部的两侧边的止挡,避免与旋转连接件发生触碰,旋转连接件向上旋转时会受到第一连接部的两侧边的止挡,避免与探伤机本体发生碰触。
同时,两阶铰连接的设置,也可以方便对探伤机进行折叠,减小探伤机在运输过程中的体积面积,方便运送。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720077991.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:水平电泳槽
- 下一篇:一种适用于表面皿原位固相微萃取测定的装置