[实用新型]一种磁片组件有效
申请号: | 201720085093.1 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN206454782U | 公开(公告)日: | 2017-09-01 |
发明(设计)人: | 潘静娴 | 申请(专利权)人: | 武汉峰境磁选技术有限公司 |
主分类号: | B03C1/10 | 分类号: | B03C1/10 |
代理公司: | 武汉国越知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42232 | 代理人: | 李伟涛 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁片 组件 | ||
技术领域
本实用新型涉及磁选技术领域,尤其设计一种磁片组件。
背景技术
磁选机是一种产生强大磁场吸引力的设备,它能将混杂在非磁性物料中的铁磁性杂质清除,其广泛应用于冶金、矿山等行业。
现有的磁选机,其磁辊由滚筒、导磁板和多个小磁片组成,导磁板安装在滚筒的圆周上,多个小磁片无间隙的排列成多行多列,并安装在导磁板上;相邻两个小磁片的磁极相反,在磁选矿物时,因相邻两个小磁片连接处上方的梯度变化不明显,导致场强低,故相邻两个小磁片连接处上方的磁选能力弱,进而导致磁选设备的整体除杂能力不高。
综上,有必要设计一种磁片组件来弥补上述缺陷。
实用新型内容
为解决上述缺陷,本实用新型提出一种磁片组件,用于解决现有技术中相邻两个小磁片连接处上方的梯度变化不明显导致除杂能力弱的缺陷。本实用新型结构简单,其通过将主磁片按照一宽一窄的规格进行有序排列,且在任意两个相邻的主磁片之间增加辅助磁片,辅助磁片的宽度不超过主磁片的宽度,不仅安装方便,还能提高相邻两个主磁片连接处上方的梯度变化,进而提高场强和磁场深度,提高磁选设备的除杂能力。
本实用新型的技术方案是这样实现的:
本实用新型公开一种磁片组件,其包括多个主磁片和多个辅助磁片,多个主磁片排列成多行多列,位于横向排列上的相邻两个主磁片的磁极相反,且磁极相反的相邻两个主磁片之间安装一个辅助磁片,相邻两个辅助磁片的磁极相反;位于横向排列的多个主磁片中,排列于奇数位置上的主磁片的宽度大于排列于偶数位置上的主磁片的宽度;主磁片的激磁方向与辅助磁片的激磁方向相互垂直,且辅助磁片的宽度小于主磁片的宽度。
其中,位于列向排列上的主磁片,同一列主磁片的磁极相同,相邻两列主磁片的磁极相反。
其中,排列于奇数位置上的主磁片的宽度、高度、长度均相同;排列于偶数位置上的主磁片的宽度、长度、高度均相同。
其中,排列于奇数位置上的主磁片的宽度与排列于偶数位置上的主磁片的宽度比例为8:6~8:4。
其中,辅助磁片的长度与主磁片的长度相同。
其中,位于横向排列的辅助磁片的个数比位于横向排列的主磁片的个数少1。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型通过将主磁片按照一宽一窄的规格进行排列,且在位于列向上磁极相反的相邻两个主磁片之间安装一辅助磁片,辅助磁片的宽度小于主磁片的宽度,因主磁片按照一宽一窄进行排列,故在局部的比例发生变化,其梯度变化也明显,主磁片和辅助磁片相互挤压后,场强更高,故除杂能力增强,更利于选矿。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型磁片组件的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参照图1,本实用新型公开一种磁片组件1,其包括多个主磁片2和多个辅助磁片3,多个主磁片排列成多行多列,位于横向排列上的相邻两个主磁片的磁极相反,且磁极相反的相邻两个主磁片之间安装一个辅助磁片,相邻两个辅助磁片的磁极相反;位于列向排列上的主磁片,同一列主磁片的磁极相同,相邻两列主磁片的磁极相反;位于横向排列的多个主磁片中,排列于奇数位置上的主磁片的宽度大于排列于偶数位置上的主磁片的宽度,其宽度比例为8:6~8:4;主磁片的激磁方向与辅助磁片的激磁方向相互垂直,且辅助磁片的宽度小于主磁片的宽度。本实用新型位于横向排列的辅助磁片的个数比位于横向排列的主磁片的个数少1。
本实用新型辅助磁片的大小一致,方便有序、批量安装至导磁板上。本领域技术人员可根据实际需求,将其间隔设置为一宽一窄,利于在局部形成梯度变化,便于选矿。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉峰境磁选技术有限公司,未经武汉峰境磁选技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720085093.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。