[实用新型]一种分散研磨装置

权利要求书

1.一种分散研磨装置，其特征在于：包括绝缘外壳(1)和电磁感应器(12)，所述绝缘外壳(1)的内表面固定安装有底座(2)，在底座(2)的上表面固定安装有转动轴(4)，在转动轴(4)的后部还设置有线圈电机(7)，所述线圈电机(7)的左端还固定安装有线圈(3)，在线圈(3)的两侧均设置有永磁铁(23)，所述线圈电机(7)的右侧面通过磁头(8)与伺服盘片(9)相连接，且在伺服盘片(9)的正面还固定安装有主轴电机(10)，所述主轴电机(10)的上端固定安装有连接杆(11)，在连接杆(11)的正面还固定安装有套筒(13)，所述套筒(13)的正面固定安装有研磨盘(15)，且在研磨盘(15)的上表面还镀有银离子层(14)，所述电磁感应器(12)通过安装在其内侧的螺杆(16)固定安装在套筒(13)的内表面上，所述螺杆(16)的上表面固定安装有滑板(18)，且滑板(18)的上端设置有滑座(20)，在滑座(20)的内壁上镶嵌有磁导体(19)，所述磁导体(19)的正面还固定安装有连接工件(22)。

2.根据权利要求1所述的一种分散研磨装置，其特征在于：所述螺杆(16)的四周还固定安装有多个螺帽(17)，且多个螺帽(17)均对称分布在螺杆(16)的外表面上。

3.根据权利要求1所述的一种分散研磨装置，其特征在于：所述磁导体(19)的上表面还固定安装有隔离环(21)，所述隔离环(21)采用绝缘材料制作而成。

4.根据权利要求1所述的一种分散研磨装置，其特征在于：所述线圈电机(7)的上表面固定安装有弹性梁(5)，且弹性梁(5)右端与研磨盘(15)滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种分散研磨装置，其特征在于：所述研磨盘(15)采用V型槽结构。