[实用新型]一种靶材真空清洗隔离装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及涂层技术领域，特别涉及涂层生产中的一种靶材真空清洗隔离装置。

背景技术

在涂层生产过程中，通常先抽真空，加热，再清洗靶材，再进行工件离子刻蚀，最后涂层。在清洗靶材时，被涂层的工件已经在设备里面，在真空状态及480度温度下，在靶材表面形成电弧，去除靶材表面一层组织。由于现有的靶材都是敞开式的，靶材前面没有任何遮挡。从而，在靶材清洗的时候，靶材挥发产生的物质直接会接触到工件，虽然靶材清洗干净了，但是却产生了工件被靶材清洗所产生的废料污染的风险。

发明内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种靶材真空清洗隔离装置，可以保证在靶材清洗时不会污染工件。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：一种靶材真空清洗隔离装置，包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，所述挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，所述上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，所述N极磁铁位于非金属件的上方，该N极磁铁与气动元件连接，所述S极磁铁位于开孔的下方 ，该S极磁铁与所述挡板的上端相接，所述下支撑结构为一轴承支撑件，该轴承支撑件的内腔为锥形腔，所述挡板的下端设有一连接轴，该连接轴连接于轴承支撑件的内腔中。

进一步的，所述S极磁铁由半块强磁铁和半块非磁性材料组成。

进一步的，气动元件与控制系统连接。

本实用新型的有益效果是：在靶材清洗时，气动元件转动，通过S极磁铁和N极磁铁的强磁性作用，带动挡板转动，从而关闭挡板，靶材清洗时挥发的物质被挡板挡住，留在挡板上，从而不会污染真空腔室以及真空腔室内的工件。靶材清洗完成后，在气动元件、S极磁铁和N极磁铁的配合下，将挡板打开，以进行后续的涂层加工工序。真空腔室的上腔壁的开孔上通过非金属件进行密封，不仅保证了真空腔体的密封性，而且非金属件又不会削弱磁性的强度，随着时间的延长，不会被磁化，有效保证了N极磁铁和S极磁铁的高磁性。另外，本实用新型的上支撑结构的设计，在挡板转动的过程中，挡板上端以及上支撑结构不与真空腔体的上腔壁接触，不会产生转动引起的漏气风险及磨损问题，有效的保证了腔体的密封性，保证了工件的安全性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

如图1所示，一种靶材真空清洗隔离装置，包括挡板1、上支撑结构和下支撑结构，该挡板1设置于真空腔体内，所述挡板1通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板1通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板1的后方设有靶材，所述上支撑结构包括气动元件2、N极磁铁3和S极磁铁4，真空腔体的上腔壁上开设有开孔5，该开孔5的上侧设有非金属件6，所述N极磁铁3位于非金属件6的上方，该N极磁铁3与气动元件2连接，所述S极磁铁4位于开孔5的下方 ，该S极磁铁4与所述挡板1的上端相接，所述下支撑结构为一轴承支撑件7，该轴承支撑件7的内腔为锥形腔，所述挡板1的下端设有一连接轴8，该连接轴8连接于轴承支撑件7的内腔中，连接轴8的下端为与轴承支撑件7的锥形腔配合的锥形结构。

进一步说，所述S极磁铁4由半块强磁铁和半块非磁性材料组成。

进一步说，气动元件2与控制系统连接。

在靶材清洗时，控制系统控制气动元件2转动，并在S极磁铁4和N极磁铁3的强磁性作用下，带动挡板1转动，从而关闭挡板1，达到开关的作用，靶材清洗时其表面挥发的物质被挡板1挡住，留在挡板1上，从而不会污染真空腔室以及真空腔室内的工件。靶材清洗完成后，在气动元件2、S极磁铁4和N极磁铁3的配合下，挡板1打开，以进行后续的涂层加工工序。