[实用新型]一种全反射式消光晕光束匀化光学系统有效

专利信息
申请号: 201720138311.3 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN206431372U 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 邵华江;李思佳;李思泉 申请(专利权)人: 上海嘉强自动化技术有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638 代理人: 王新爱
地址: 201611 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 全反射 光晕 光束 光学系统
【权利要求书】:

1.一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于:包括第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜,且第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜镜片均为90°光束偏转角,第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜镜片中心对称面共面;其中,所述第一片双曲面反射镜与第一片离轴抛物镜、第二片离轴抛物镜与第二片双曲面反射镜镜面中心法线对应相互垂直,所述第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列以及第二片离轴抛物镜镜面中心法线彼此相互平行。

2.根据权利要求1所述的一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于:所述第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜均为圆柱状斜面反射镜。

3.根据权利要求1所述的一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于:所述第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜均为凹面反射镜。

4.根据权利要求1所述的一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于:所述第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列均为凹面型阵列。

5.根据权利要求1所述的一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于:所述第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜均带水冷通道。

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