[实用新型]一种磁场可调的磁控溅射涂层系统

权利要求书

1.一种磁场可调的磁控溅射涂层系统，其特征在于：包括真空腔室、靶材、磁铁、步进电机、直流脉冲电源和PLC单元，靶材设置于真空腔室中，磁铁设置于靶材的后方，步进电机连接有齿轮传动机构，该齿轮传动机构连接有连杆机构，连杆机构又与磁铁连接，步进电机通过齿轮传动机构和连杆机构的配合带动磁铁前后移动，该直流脉冲电源具有负极、正极、电源控制端口和电源通信端口，真空腔室上设有阴极和阳极，直流脉冲电源的负极与阴极连接，直流脉冲电源的正极与阳极连接，该PLC单元包括CPU、通信模块、输入模块和输出模块，直流脉冲电源的电源通信端口通过profibus总线与PLC单元的通信模块连接，直流脉冲电源的电源控制端口通过profibus总线与PLC单元的输出模块连接，所述步进电机具有电机控制端口和电机通信端口，PLC单元的通信模块通过profibus总线与步进电机的电机通信端口连接，PLC单元的输出模块通过profibus总线与步进电机的电机控制端口连接。

2.根据权利要求1所述的一种磁场可调的磁控溅射涂层系统，其特征在于：该真空腔室连接有冷却水进水管和冷却水出水管。

3.根据权利要求1所述的一种磁场可调的磁控溅射涂层系统，其特征在于：所述齿轮传动机构包括主动齿轮、从动齿轮和传动带，该主动齿轮与步进电机连接，传动带连接于主动齿轮和从动齿轮之间。

4.根据权利要求1所述的一种磁场可调的磁控溅射涂层系统，其特征在于：所述CPU与PC连接。