[实用新型]一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统有效
申请号: | 201720140485.3 | 申请日: | 2017-02-16 |
公开(公告)号: | CN206502603U | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 王振中 | 申请(专利权)人: | 厦门烯成石墨烯科技有限公司 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361015 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子体 原位 刻蚀 辅助 生长 石墨 制备 系统 | ||
1.一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述系统由机架、高温管式炉、石英管、微波等离子体发生装置、微波等离子体刻蚀装置、磁力杆组成;所述石英管通过支撑机构固定在机架上;所述高温管式炉通过滑动轨道连接在机架上,沿石英管外壁径向移动;所述系统还包括进气组,所述进气组包括气源和进气石英管,所述进气石英管的一端从石英管进样端延伸至石英管中,另一端在石英管外与气源相连;所述微波等离子发生装置包围在石英管外的进气石英管外部;所述微波等离子体刻蚀装置包围在石英管外部,设置在磁力杆和高温管式炉之间。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述进气组还包括气体质量流量控制器和阀门,所述气体质量流量控制器和阀门设置在气源和进气石英管之间,并通过导气管相连接;所述进气组分为两路,其中一路经过微波等离子体发生装置进入到石英管中;另一路直接进入石英管。
3.根据权利要求1所述的一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述气源包括氩气、甲烷和氢气。
4.根据权利要求1所述的一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述设备还包括真空系统和过压保护器,所述真空系统和过压保护器通过法兰连接到石英管进样端口。
5.根据权利要求4所述的一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述真空系统包括真空泵和真空压力计,通过导气管与法兰相连接。
6.根据权利要求1所述的一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统,其特征在于:所述磁力杆与石英管的一端由法兰连接。
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