[实用新型]一种高度差测量装置有效

专利信息
申请号: 201720153921.0 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN206450161U 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 孙可可;朱增宝;张迪 申请(专利权)人: 安徽理工大学
主分类号: G01B5/02 分类号: G01B5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 232001 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 高度 测量 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种空间中两个位置高度差的测量装置。

背景技术

在实际生产中,高度差测量装置主要应用于两平面间的高度差测量,如地面两个平台之间的高度差测量、方向向下的两个凸台之间的高度差测量。通常的测量方法是分别测量出两平面相对于基准平面的距离,然后将测得的数据相减,这样做对于参考面的选取就比较费时费力,而且需同时测量两次数据,若参考面的选取不规则,则测量就更加困难。

在高度差测量过程中,通常的测量方法有钢尺量高、测高仪测高等。其中钢尺量高操作灵活,但准确度较低;测高仪测高是一种激光测距装置和垂直角度传感器合二为一的手持快速测量仪器,具有轻巧便携,操作简单等特点,但其价格较高,对于实际平面间高度差的测量会受到一定的局限。

鉴于此,提出一种高度差测量装置结构及其工作原理。

发明内容

针对上述问题,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种结构简单、并且测量准确的高度差测量装置。为使操作灵活,底座和测量架之间采用滚珠结构进行旋转配合,滑块与测量臂之间为十字槽配合的特殊结构。

为了解决上述问题,本实用新型提供的技术方案为:

一种高度差测量装置,包括底座、端盖、测量架、游标尺、螺帽、测量臂、T型滑块、保持架、滚珠。所述游标尺与所述T型滑块配合,所述T型滑块与所述测量臂通过所述螺帽固定连接,同时所述T型滑块通过所述测量架上的T型槽可以实现上下滑动,所述游标尺上刻有刻度线,通过所述测量臂与不同高度物体接触,可以读出两平面间的高度差。

优选的,所述测量架通过所述滚珠与所述底座配合,所述底座与所述端盖配合,进而实现所述测量架的旋转运动,同时所述滚珠通过所述保持架固定。

优选的,所述测量架一侧刻有刻度线,另一侧开有T型槽道,与所述T型滑块配合。

优选的,所述T型滑块与所述测量臂之间通过十字槽连接,所述T型滑块上加工有外螺纹,与所述螺帽旋转配合,所述螺帽上加工有可手动旋转的槽道,通过旋转所述螺帽和所述测量臂可以实现上端两平面间高度差的测量以及下端两平面间高度差的测量。

优选的,所述测量架上具有两个示数相反的刻度线,所述底座下表面与测量架下侧零刻度线之间的距离等于测量臂竖直方向的长度,同时所述测量架上侧零刻度线与所述测量架上表面之间的距离等于测量臂竖直方向的长度,因而可以通过测量架上的示数直接读出两平面间高度差。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:

本实用新型通过底座和测量架之间的旋转配合,滑块与测量臂十字槽配合的结构设计,同时测量架上刻度的特殊设计,该高度差测量装置具有测量范围广、结构简单、易于手动操作等优点。

附图说明

图1是高度差测量装置结构图;

图2是高度差测量装置爆炸结构图;

图3是测量架结构图。

图中:1、底座,2、端盖,3、测量架,4、游标尺,5、螺帽,6、测量臂,7、T型滑块,8、保持架,9、滚珠。

具体实施方式

下面对本实用新型做进一步说明:

结合图1、图2、图3,一种高度差测量装置,包括底座1、端盖2、测量架3、游标尺4、螺帽5、测量臂6、T型滑块7、保持架8、滚珠9。游标尺4与T型滑块7配合,T型滑块7与测量臂6通过螺帽5固定连接,同时T型滑块7通过测量架3上的T型槽可以实现上下滑动,游标尺4上刻有刻度线,通过测量臂6与不同高度物体接触,可以读出两平面间的高度差。

测量架3通过滚珠9与底座1配合,底座1与端盖2配合,进而实现测量架3的旋转运动,同时滚珠9通过保持架8固定。

测量架3一侧刻有刻度线,另一侧开有T型槽道,与T型滑块7配合。

T型滑块7与测量臂6之间通过十字槽连接,T型滑块7上加工有外螺纹,与螺帽5旋转配合,螺帽5上加工有可手动旋转的槽道,通过旋转螺帽5和测量臂6可以实现上端两平面间高度差的测量以及下端两平面间高度差的测量。

测量架3上具有两个示数相反的刻度线,底座1下表面与测量架3下侧零刻度线之间的距离等于测量臂6竖直方向的长度,同时测量架3上侧零刻度线与测量架3上表面之间的距离等于测量臂6竖直方向的长度,因而可以通过测量架3上的示数直接读出两平面间的高度差。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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