[实用新型]一种新型镀膜石墨舟有效
申请号: | 201720163423.4 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN206502864U | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 何达能;方结彬;陈刚 | 申请(专利权)人: | 广东爱康太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01L31/18;H01L21/673 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司44104 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 528137 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 镀膜 石墨 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种石墨舟,特别涉及一种新型镀膜石墨舟。
背景技术
太阳能电池的制造需要经过制绒、扩散、刻蚀、镀膜、丝网印刷和烧结这六大工序。其中,镀膜工序是采用等离子增强化学气相沉积的方法在硅片正面镀氮化硅膜,以减少太阳光反射以及对硅片表面起钝化作用。硅片进行其表面镀膜工序时,需要将未镀膜的硅片插入PECVD真空镀膜设备的载片器上,目前,载片器通常采用石墨舟,一般是操作人员将花篮中的硅片插入专门的石墨舟或者通过自动上下料机将硅片插入专门的石墨舟,具体操作过程是:将硅片插入石墨舟并通过固定卡点定位于其上,然后,将载有硅片的石墨舟放置在PECVD真空镀膜设备中,采用PECVD工艺对硅片进行镀膜。
现有的石墨舟一般采用3个固定卡点卡住硅片的三条边,将硅片固定住。但是,在镀膜过程中,卡点会阻挡氮化硅膜的沉积,导致硅片上的卡点处镀膜厚度不够,形成色差,降低电池外观良品率和电池的光电转换效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种能够提高电池外观良品率、提高电池的光电转换效率的新型镀膜石墨舟,克服传统镀膜石墨舟的卡点处镀膜不均的缺陷。
本实用新型的目的通过以下的技术措施来实现:一种新型镀膜石墨舟,其特征在于:它主要由绝缘棒和在水平方向上排列的数个单元舟片组成,所述单元舟片为竖向设置的片状体,相邻的单元舟片之间具有间隙,所述绝缘棒于各单元舟片的周缘贯穿而将全部的单元舟片连接固定在一起,位于两外侧的单元舟片的内外表面上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽,位于每个外侧单元舟片内外表面上的凹槽相对应,在凹槽的槽底面上设有贯通该对应凹槽的用于抽真空的细孔,位于中间的单元舟片上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔,在所述凹槽和通孔的周边区域中设有用于固定硅片的卡点,所述卡点主要由用于安装在单元舟片安装孔中的圆柱形安装部、一对卡块和安装轴组成,所述安装轴连接安装部和卡块,在安装部和卡块之间形成用于卡合硅片的卡口,所述卡块为中空的三角形块状体或中空的圆柱形块状体,所述安装轴连接在卡块的内顶面上,在所述安装轴与卡块的内壁之间设有连接杆,所述卡块不遮挡硅片表面相对应的区域以便镀膜均匀。
本实用新型的卡点不同于传统石墨舟上的圆柱形实心卡点,由于卡块是中空的,因此,可以减少硅片卡点处的遮挡面积,减少硅片的划伤,改善镀膜均匀性,提升太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。另外,本实用新型由在水平方向上排布的若干个单元舟片组成,在单元舟片上设有呈阵列排布的若干个凹槽和通孔,可以根据镀膜工艺的实际情况和需要,调整待镀膜硅片在单元舟片上的阵列分布,从而提高硅片镀膜的均匀性。
作为本实用新型的一种实施方式,所述凹槽和通孔的口缘形状为正方形四个边角圆弧过渡的形状,主要由顶边、底边和两条侧边组成,所述卡点为3个且位于凹槽和通孔的周边区域中并分别靠近底边和侧边。
作为本实用新型的一种实施方式,所述单元舟片的数量为2~50,相邻单元舟片之间的间距为5~50mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述中空的圆柱形块状体的直径为5~10mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述中空的圆柱形块状体的厚度是2~8mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述中空的三角形块状体的横截面为等边三角形,其边长为2~8mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述中空的三角形块状体的厚度为1~5mm。
作为本实用新型的一种实施方式,卡块的中空部分在硅片上的正投影区域的长度为1~7mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述绝缘棒采用陶瓷棒,也可以采用其它绝缘材料制成。
与现有技术相比,本实用新型具有以下显著的优点:
⑴本实用新型的卡点不同于传统石墨舟上的圆柱形实心卡点,由于卡块是中空的,因此,可以减少硅片卡点处的遮挡面积,减少硅片的划伤,改善镀膜均匀性,提升太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。
⑵本实用新型由在水平方向上排布的若干个单元舟片组成,在单元舟片上设有呈阵列排布的若干个凹槽和通孔,可以根据镀膜工艺的实际情况和需要,调整待镀膜硅片在单元舟片上的阵列分布,从而提高硅片镀膜的均匀性。
⑶本实用新型结构简单,容易实现,实用性强,适于广泛推广和适用。
附图说明
以下结合附图对本实用新型作进一步的详细说明。
图1是本实用新型实施例1的整体结构示意图;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的