[实用新型]一种皮秒锁模激光器

权利要求书

1.一种皮秒锁模激光器，包括半导体泵浦源LD，所述半导体泵浦源LD的后面，沿着所述半导体泵浦源LD的出射光方向依次设置有泵浦光耦合透镜L和锁模振荡器；其特征在于，

所述锁模振荡器包括反射镜M1、增益晶体C、法布里泊罗标准具、输出镜M2、平凹镜M3和锁模器件SESAM；

所述法布里泊罗标准具包括沿着所述半导体泵浦源LD的出射光方向依次设置的透射镜E1和透射镜E2，所述透射镜E1和所述透射镜E2设置有调节机构，所述调节机构沿所述半导体泵浦源LD的出射光方向对所述透射镜E1和所述透射镜E2进行相对位置调节，以调节所述透射镜E1和所述透射镜E2之间的距离；

所述反射镜M1、所述增益晶体C、所述法布里泊罗标准具和所述输出镜M2沿着所述半导体泵浦源LD的出射光方向依次设置；

所述锁模器件SESAM和所述平凹镜M3逆着所述半导体泵浦源LD的出射光方向依次设置，且所述锁模器件SESAM和所述平凹镜M3之间的光路方向与所述半导体泵浦源LD的出射光方向相互平行。

2.如权利要求1所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述调节机构包括底座，所述底座上设置有位置固定的固定透镜组件和位置可移动的平移滑台；

所述透射镜E1固定设置在所述固定透镜组件上；

所述平移滑台上固定设置有移动透镜组件，所述透射镜E2固定设置在所述移动透镜组件上。

3.如权利要求2所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述固定透镜组件包括固定设置在所述底座上的固定镜片座，所述透射镜E1固定设置在所述固定镜片座内，所述固定镜片座内、位于所述透射镜E1外侧的位置处设置有固定压圈，所述固定镜片座内、位于所述透射镜E1和所述固定压圈之间设置有固定隔圈；

所述平移滑台包括固定板和移动板，所述固定板固定在所述底座上，所述移动板的底面设置有凹槽，所述凹槽套设在所述固定板上，所述凹槽的侧面设置有锁紧螺孔，所述锁紧螺孔内设置有锁紧螺钉；

所述移动板上固定设置有移动镜片座，所述透射镜E2固定设置在所述移动镜片座内，所述移动镜片座内、位于所述透射镜E2外侧的位置处设置有移动压圈，所述移动镜片座内、位于所述透射镜E2和所述移动压圈之间设置有移动隔圈；

所述移动板上固定设置有移动顶块，所述固定板上固定设置有与所述移动顶块位置对应的调节螺杆。

4.如权利要求3所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述固定镜片座通过固定组件螺钉固定在所述底座上；所述移动镜片座通过移动组件螺钉固定在所述移动板上。

5.如权利要求1-4中任一项所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述反射镜M1、所述输出镜M2、所述平凹镜M3和所述锁模器件SESAM构成振荡腔。

6.如权利要求5所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，反射镜M1设置为透射泵浦光反射振荡光的反射镜。

7.如权利要求6所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述平凹镜M3设置在将振荡光聚焦到所述锁模器件SESAM的位置。

8.如权利要求7所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述锁模器件SESAM设置为半导体可饱和吸收镜。

9.如权利要求8所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述增益晶体C设置为Nd:YVO₄晶体。

10.如权利要求8所述的皮秒锁模激光器，其特征在于，所述法布里泊罗标准具的透过谱线宽度如下式所示：

δv=c2πμd1-rr---(1)]]>

其中，μ为所述法布里泊罗标准具的所述透射镜E1和所述透射镜E2之间介质的折射率，d为所述法布里泊罗标准具的所述透射镜E1和所述透射镜E2之间的距离，c为光速，r为所述法布里泊罗标准具的所述透射镜E1和所述透射镜E2的反射率。