[实用新型]一种探索暗物质用的屏蔽装置

权利要求书

1.一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，包括屏蔽壳体和放射源，所述放射源设置在屏蔽壳体内，所述屏蔽壳体包括由内向外依次设置的第一合金屏蔽层、树脂屏蔽层、第二合金屏蔽层。

2.根据权利要求1所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述第一合金屏蔽层的材质为铜、钨、铅中至少一种合金。

3.根据权利要求2所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述第一合金屏蔽层为铜基合金屏蔽层。

4.根据权利要求1所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述第二合金屏蔽层的材质为铜、钨、铅中至少一种合金。

5.根据权利要求4所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述第二合金屏蔽层为铅基合金屏蔽层。

6.根据权利要求1所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述树脂屏蔽层为聚四氟乙烯屏蔽层。

7.根据权利要求1所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述屏蔽壳体由屏蔽砖均匀堆砌而成，所述屏蔽砖包括自上而下依次设置的铜基合金屏蔽层、聚四氟乙烯屏蔽层、铅基合金屏蔽层。

8.根据权利要求1所述的一种探索暗物质用的屏蔽装置，其特征在于，所述屏蔽壳体上设有操作孔，所述屏蔽装置还包括与操作孔相匹配的屏蔽门，所述屏蔽门包括自下而上依次设置的铜基合金屏蔽层、聚四氟乙烯屏蔽层、铅基合金屏蔽层。