[实用新型]湿法面接触柔性高效抛光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷、石材、金属板等板材板面的抛光加工领域，特别涉及一种湿法面接触柔性高效抛光机。

背景技术

陶瓷石材的打磨抛光方法目前一般分为干法和湿法两种，其中湿法的磨抛生产线通常包括有磨抛模块、输送模块，磨抛模块包括磨头及注水设备等，输送模块将工件输送至磨头下方后，磨头下压并一般旋磨抛光一边注水冲刷及防扬尘，打磨抛光后工件再被送走。传统的抛光生产，目前均采用摆脚线接触式抛光机磨头结构，磨块采用“T”型磨块。这些传统的湿法抛光方式效率低、柔性差，磨块打磨时实质与工件表面是线接触，单位时间加工面积小，刮擦工件表面易形成波纹面，同时用水量大，甚至容易腐蚀相应设备，使设备功能衰退最后影响生产稳定。如今陶瓷石材生产需求量大，生产线负荷重，而市场上现有的一些较新颖的湿法抛光线，却又或多或少面临皮带走偏、防水不良、不能贴合工件表面磨抛导致损件率高等各种窘况，故市场迫切需要一种新的湿法抛光线来解决这些问题。

实用新型内容

本实用新型解决其技术问题的解决方案是：提供一种湿法面接触柔性高效抛光机，包括具有机台面的机架，所述机架的机台面上设有：

磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括：

磨头支架，其跨设在机架上；

主轴，其竖直穿过磨头支架；

公转盘，其平放且中间位置与所述主轴的下段连接，公转盘设有出水口，且公转盘靠近边缘处设有若干个磨具模组安装位；

公转电机，其安装在主轴上段，通过带传动驱动主轴旋转；

磨具模组，其包括相应地竖立安装在所述磨具模组安装位上的磨具中轴，磨具中轴下端设有磨具基座，与磨具基座下部连接的虚实结合弹性体，以及位于虚实结合弹性体下方的水磨碟，所述虚实结合弹性体是弹性软垫构件，其具有当虚实结合弹性体弹性变形时能提供进退活动空间的虚位，所述水磨碟为圆形的碟片，所述碟片上以同心圆的结构设有若干圈打磨层，所述打磨层包括间隔设置的磨块和排屑槽，所述碟片上每一圈打磨层的磨块的数量相等，外一圈打磨层的磨块前端嵌入内一圈打磨层的排屑槽，外一圈打磨层的磨块与内一圈打磨层的磨块之间留有缝隙，且所述磨块为前窄后宽的流线型构件；

所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘下方注出；

所述机架上还设有：

输送模块，其包括：

输送皮带，其为闭环，可回转地设置在机台面的上部和下部，所述磨抛模块位于输送皮带的上表面上方；

免修正耐磨底板，其平放地安装在机台面上，输送皮带的下表面对着所述免修正耐磨底板的上板面，免修正耐磨底板包括耐磨陶瓷块和整体平整的基板，所述耐磨陶瓷块紧密排列成耐磨陶瓷块板组，耐磨陶瓷块板组背面与所述基板正面之间通过粘结剂压合，所述基板上布有多个贯穿基板的溢流孔，粘结剂部分地漫溢入溢流孔内，所述基板是拉伸网板或冲孔网板。

进一步，所述主轴沿轴向贯穿成中空通道，所述加水机构包括设在中空通道内的具有上注水端口和下出水端口的注水管道，所述上注水端口与一可与外设的水源相通的主轴加水接头连接，公转盘中央位置设有出水孔洞作为所述出水口，下出水端口对着所述出水孔洞使得所述水源的水可通过注水管道自上而下地流动并最终通过出水孔洞注出。

进一步，所述磨具中轴的上端与行星电机的输出端相连接。所述行星电机具有多种选择，可以是自转抛光防水电机，所述自转抛光防水电机的机壳内部通过气管与外界相连通使得机壳内外压力平衡，所述气管部分或全部藏于所述中空通道内；又或者是全密封防水电机。

进一步，所述主轴的上段安装有用于给行星电机供电的集电环结构，其与行星电机电连接的供电集束线路同样部分或全部藏于所述中空通道内。

进一步，所述加水机构还包括与磨头支架连接的防漏水斗，防漏水斗具有底面及立在底面之上的外周壁，所述底面设有供主轴通过的上通孔，所述上通孔的周缘设有直立、围住主轴的围壁，一防水挡板紧密套接在主轴加水接头与上注水端口相接的接口之下且防水挡板整体在所述围壁的上边缘的上空伸展、在水平方向上完全覆盖住所述上通孔。

进一步，所述输送皮带闭合成环状，其两侧边缘的周长的差值在1mm以下。

进一步，所述磨抛模块有多组，各组磨抛模块之间还设有隔离板，所述隔离板与机架固定连接。

进一步，所述虚实结合弹性体的虚位是分布于主体端面的孔洞。所述孔洞是盲孔和/或通孔。