[实用新型]一种烫钻镜面研磨抛光装置有效
申请号: | 201720201415.4 | 申请日: | 2017-03-02 |
公开(公告)号: | CN206998587U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 谢伯强 | 申请(专利权)人: | 佛山市南海蓝碟羽五金制品有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/27;B24B37/34 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 赵蕊红 |
地址: | 528200 广东省佛山市南海区里水*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 烫钻镜面 研磨 抛光 装置 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种研磨抛光装置,尤其设计一种烫钻镜面研磨抛光装置。
【背景技术】
烫钻体积小,在研磨抛光工艺中,如果单独对每一颗进行研磨抛光,则会极大的降低效率。因此现有技术中一般对多个烫钻通过吸塑胶片进行固定,然后一次性研磨抛光。在研磨过程中,需要有多个研磨器来对烫钻进行粗磨、中磨和细磨,现有技术中的研磨器均摆放在同一个平面,导致了研磨抛光装置占地面积大,工人操作过程中也需要不断的来回走动加大劳动强度。因此有必要提供一种可减少占地面积,降低工人劳动强度的抛光装置。
【发明内容】
本实用新型旨在解决上述问题而提供一种可以减少占地面积、降低劳动强度的烫钻镜面研磨抛光装置。
为实现上述目的,本实用新型的一种烫钻镜面研磨抛光装置包括研磨箱体10、设置在研磨箱体10内的研磨器20、和用于将吸塑胶片40放置在研磨器20上的支架30,所述的研磨箱体10设置有若干个台阶11,任一台阶11上均设置有研磨孔12,所述的研磨器20数量与研磨孔12数量对应,所述的吸塑胶片40通过研磨孔12放置在研磨器20上,所述的研磨器20错落的设置在台阶11下方。
进一步的,相邻的研磨器20不处于同一平面且在投影面上有重叠。
进一步的,所述的吸塑胶片40固定在支架30上,支架30上设置有旋转器31,所述的旋转器31旋转将支架30倒下,从而使吸塑胶片40平置于研磨器20上。
进一步的,所述的研磨器20连接电机50并可由电机50带动旋转。
进一步的,所述的研磨器20为粗磨器、中磨器、细磨器中的一种或多种。
本实用新型的贡献在于提供了一种烫钻镜面研磨抛光装置,该装置通过将研磨箱体设置成有阶梯结构的装置,让研磨器可以错开安装在研磨箱体内,使研磨器不在同一水平面上,且在投影方向上有重叠,这样就可以减少研磨器在研磨箱体内所占的空间;同时也因为研磨器的跨度小了,可以不用来回走动实现操作,因此也可以减少人工的劳动强度;再次,本实用新型可以将多个表面粗细不一研磨器设置在研磨箱体内,实现不同阶段的研磨抛光工艺。
【附图说明】
图1为本实用新型正面内部结构示意图。
图2为本实用新型的立体结构示意图。
【具体实施方式】
下列实施例是对本实用新型的进一步解释和补充,对本实用新型不构成任何限制。
实施例1
如图1、2所示,本实施例的一种烫钻镜面研磨抛光装置包括研磨箱体10、设置在研磨箱体10内的研磨器20、和用于将吸塑胶片40放置在研磨器20上的支架30,所述的研磨箱体10设置有若干个台阶11,任一台阶11上均设置有研磨孔12,所述的研磨器20数量与研磨孔12数量对应,所述的吸塑胶片40通过研磨孔12放置在研磨器20上,所述的研磨器20交叉错落的设置在台阶11下方。相邻的研磨器20不处于同一平面且在投影面上有重叠。传统的烫钻抛光装置都将研磨器摆成同一个平面的一排,且相互之间隔有一定的缝隙,这就要求研磨箱体的体积必须要大。为了解决上述问题,本实施例中的烫钻镜面研磨抛光装置将研磨箱体10设置多个台阶11,台阶11的下方设置研磨器20,研磨器20错落的设置在台阶11下方。这样的设计首先使研磨器20不设置在同一平面上,在竖直方向上就节省出很多空间,相邻的研磨器20之间也不需要留缝隙,极大的缩小了研磨箱体10的横向体积。人工操作也不需要来回走动,降低工人的劳动强度。同时设置有台阶11的研磨箱体10内用于研磨的水可以从高出往低处流,不需要额外对所有研磨器20进行冲水。
实施例2
如图1、2所示,本实施例中,所述的吸塑胶片40固定在支架30上,支架30上设置有旋转器31,所述的旋转器31旋转将支架30倒下,从而使吸塑胶片40平置于研磨器20上。所述的研磨器20连接电机50并可由电机50带动旋转。所述的研磨器20为粗磨器、中磨器、细磨器中的一种或多种。研磨器20分为多种可满足不同成都的精磨,电机50用于驱动所有的研磨器20转动,需要研磨时,将旋转器31旋转,使支架30倒下,将吸塑胶片40平置于研磨器20上。
尽管通过以上实施例对本实用新型进行了揭示,但本实用新型的保护范围并不局限于此,在不偏离本实用新型构思的条件下,对以上各构件所做的变形、替换等均将落入本实用新型的权利要求范围内。
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