[实用新型]一种胶体溶液制备及镀膜装置

权利要求书

1.一种胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，包括：

多组组分溶液存储容器；

每组组分溶液存储容器连接的一级组分溶液滴定速度控制器；

与每组组分溶液滴定速度控制器的出口连接的胶体溶液反应器；

与所述胶体溶液反应器出口连接的中间级组分溶液滴定速度控制器；

与中间级组分溶液滴定速度控制器连接的胶体溶液存储器；

与所述胶体溶液存储器的出口连接的末级组分溶液滴定速度控制器；

与所述末级组分溶液滴定速度控制器出口连接的导管；

以及，导管将胶体导入到的浸渍镀膜装置进行镀膜。

2.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述多组组分溶液存储容器包括至少两组。

3.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述浸渍镀膜装置包括镀膜槽，在镀膜槽底部设置多孔板将镀膜槽分割为两层，在镀膜槽的上层竖向设置多组平行的基材支撑器，所述基材支撑器上竖直方向安装多组基材，导管通入镀膜槽的底部，利用胶体溶液的流入/流出完成镀膜过程。

4.按照权利要求3所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，基材支撑器结构为带有对称沟槽的多组平行有机玻璃板，镀膜基材固定在对称沟槽中。

5.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述组分溶液存储容器为玻璃容器，容器上部为干燥管，下部有组分流出导管。

6.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，组分溶液滴定速度控制器速度控制范围2-12mL/min，控制精度±0.1mL/min。

7.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，胶体溶液反应器内置搅拌器以及温度控制器，进行均匀搅拌、加热、温度测量。

8.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，胶体注入和流出速度控制器的控制范围为1mm/min-10mm/min。