[实用新型]玻璃窑炉熔化池有效
申请号: | 201720227559.7 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN206544977U | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | 施敖荣;李兆廷;王建强;胡恒广 | 申请(专利权)人: | 福州东旭光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭集团有限公司 |
主分类号: | C03B3/02 | 分类号: | C03B3/02;C03B5/16 |
代理公司: | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)11447 | 代理人: | 陈庆超,桑传标 |
地址: | 350000 福建省福州市福州保税港区加工贸易区监管*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 熔化 | ||
技术领域
本公开涉及玻璃制造领域,具体地,涉及一种玻璃窑炉熔化池。
背景技术
液晶基板玻璃在液晶面板的生产过程中需要经过高温、蚀刻等复杂的制程,因此要求液晶基板玻璃具有热膨胀系数低、机械强度高、化学稳定性好、耐高温等优良特性。为了使液晶基板玻璃具有以上特性,需要使玻璃成分中的二氧化硅、氧化铝和氧化硼的含量较高,然而玻璃的各个成分具有不同的熔点和沸点,二氧化硅和氧化铝属于难熔化的成分,而氧化硼又容易挥发,这不仅影响玻璃性能而且会使成本增加。
随着液晶显示技术的不断进步,液晶面板对液晶基板玻璃的质量要求越来越高,因此对玻璃液熔化质量也相应提出了更高的要求。
现有的液晶基板的玻璃窑炉中,投料口为直接在熔化池的侧壁上开设的孔,配合料通过投料机直接投到该孔中。由于配合料直接进入1500℃左右的高温熔化池后容易分层,不利于配合料中二氧化硅和氧化铝的熔化,且氧化硼的挥发多,因而影响玻璃的熔化质量,并使成本上升。
实用新型内容
本公开的目的是提供一种玻璃窑炉熔化池,该玻璃窑炉熔化池可以提高玻璃液的熔化质量,并降低成本。
为了实现上述目的,本公开提供一种玻璃窑炉熔化池,该玻璃窑炉熔化池包括池体,该池体包括投料侧,其中,所述池体在所述投料侧包括由墙体和所述池体的池底围成的上料口和下料口,所述下料口的后侧与所述池体的内部连通,所述下料口的前侧封闭,所述上料口的后侧封闭,所述上料口的前侧朝向前方突出于所述下料口的前侧,并且所述上料口的底侧与所述下料口的顶侧部分重合而连通。
可选地,所述下料口的长度为1500mm~2500mm,所述下料口的宽度为所述池体的宽度的70%~80%,所述下料口的高度与所述池体的深度相等。
可选地,所述下料口包括从后至前连通的下料部和下重合部,所述下料部与所述池体的内部连通,所述上料口包括从后至前连通的上重合部和上料部,所述上重合部与所述下重合部上下对齐而连通。
可选地,上重合部的高度大于所述上料部的高度。
可选地,所述墙体从后至前依次包括第一墙体、第二墙体和投料墙体,所述下料部由所述第一墙体和所述第二墙体与所述池底一起围成,所述下重合部和所述上重合部由所述投料墙体的一部分与所述池底围成,所述下重合部的前侧由前墙封闭,所述上重合部的后侧由所述第二墙体封闭,以及所述上料部由所述投料墙体的其余部分与所述前墙围成。
可选地,所述第一墙体高于所述第二墙体,并且所述第一墙体在高于所述第二墙体的部分上形成有用于安装摄像设备以观察所述池体内部的观察孔,该观察孔贯穿所述第一墙体。
可选地,第一墙体包括竖墙和位于所述竖墙下方的平碹,所述竖墙上形成有所述观察孔,所述第二墙体为斜碹,所述平碹和所述斜碹与所述池底围成所述下重合部。
可选地,所述竖墙包括上竖墙和位于该上竖墙下方的下竖墙,所述平碹位于该下竖墙的下方,所述上竖墙上形成有所述观察孔,并且所述上竖墙的后壁在所述观察孔的上方的部分朝向所述池体的内部突出于所述观察孔。
可选地,所述观察孔从所述第一墙体的后侧朝向所述第一墙体的前侧倾斜向上。
可选地,所述第一墙体包括位于所述竖墙上方的密封墙以及位于所述密封墙上方的补缝墙,该补缝墙的后侧与所述池体的碹顶贴合并且与所述碹顶齐平。
通过本公开的上述技术方案,上下错开且部分重合而连通的上料口和下料口均位于池体外,在投料时,下料口通过池体的热辐射而被加热,因而不需要再单独加热,由此可以避免配合料中易熔成分与难熔成分的分层,同时减少易挥发成分的挥发,从而提高玻璃液的熔化质量,并降低成本。
本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本公开的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本公开,但并不构成对本公开的限制。在附图中:
图1是现有技术的玻璃窑炉熔化池的示意图;
图2是本公开的玻璃窑炉熔化池的局部结构放大的剖视示意图。
附图标记说明
1池体 2上料口2a上重合部
2b上料部3下料口4第一墙体
5第二墙体 6投料墙体7观察孔
11池底12碹顶 13前墙
41补缝墙42密封墙 43上竖墙
44下竖墙45平碹
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州东旭光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭集团有限公司,未经福州东旭光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司;东旭集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720227559.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于瞄准镜的激光玻璃制备装置
- 下一篇:双层真空器皿多孔真空处理结构