[实用新型]多晶硅还原炉电极有效
申请号: | 201720230226.X | 申请日: | 2017-03-10 |
公开(公告)号: | CN206955649U | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 罗文富;黄国良;罗传熙 | 申请(专利权)人: | 厦门佰事兴新材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司35218 | 代理人: | 梅爱惠 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 还原 电极 | ||
1.多晶硅还原炉电极,其特征在于:其包括能与石墨座锥孔配合的锥头,及中心设置有水冷空腔的电极体,所述电极体周围穿套有绝缘套筒且其与锥头固定相连,其中电极体与锥头对接相连的一段为连接段;该连接段与锥头外表面均设置有粗化层,所述连接段与锥头粗化层上分别喷涂有结合层,结合层的外表面设置有外涂层,所述外涂层包括第一外涂层及第二外涂层;
其中,所述第一外涂层为锥头外围设置导体层,第二外涂层为连接段外围设置由纯陶瓷粉末制成的绝缘层。
2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉电极,其特征在于:所述结合层均为纯银粉末为原料制成的喷涂层。
3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉电极,其特征在于:所述结合层为镍、铝合金任意一种金属材料制成的喷涂层。
4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉电极,其特征在于:所述第一外涂层为纯银粉末为原料制成的喷涂层。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的多晶硅还原炉电极,其特征在于:所述结合层的粗度范围为20~40μm,外涂层的粗度范围为48~115μm。
6.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉电极,其特征在于:所述粗化层为采用喷砂或抛丸工艺所形成的不规则凹凸层。
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