[实用新型]研磨扫光机半自动上下料机构

权利要求书

1.一种研磨扫光机半自动上下料机构，包括外接真空系统以对片材原料实施真空吸附的载盘、用于驱动载盘旋转及升降的载盘驱动模块以及用于控制载盘驱动模块工作状态的控制模块，其特征在于：所述研磨扫光机半自动上下料机构还包括设于载盘下方用于预装载所述片材原料的中转模块，所述中转模块包括载料台、用于承载片材原料的中转盘、用于产生真空以从底部吸附固定中转盘上的片材原料的吸附组件、用于驱动所述载料台升降的升降驱动组件，所述中转盘放置于载料台上并与载料台在周向上相对定位，所述升降驱动组件和吸附组件均电连接至所述控制模块并在所述控制模块控制下与载盘驱动模块协同动作。

2.根据权利要求1所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述中转模块还包括设于载料台下方的旋转支撑组件以及用于使载盘和中转盘相对定位的旋转定位件，所述旋转定位件包括：设置于载盘侧缘的滑动座、可滑动地安装于滑动座内且底端自滑动座底面伸出的滑块、安装于滑块底端的定位滚轮、用于保持滑块相对于滑动座弹性伸出的弹性件、安装于滑动座顶端且与弹性件远离滑块一端连接的盖板以及固定设于中转盘靠侧缘处且与所述定位滚轮位于同一圆周上的挡块，定位滚轮和挡块在周向上相互抵顶配合实现载盘和中转盘的相对定位，使中转盘与载盘同步旋转。

3.根据权利要求2所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述挡块的与定位滚轮相抵顶的侧面相背离的另一侧面为斜面，且所述斜面的顶缘与所述挡块的与定位滚轮相抵顶的侧面的顶缘的间距小于预定值。

4.根据权利要求2所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述载料台的顶面设有凸环，凸环顶面开设有环形槽，所述环形槽内嵌设有密封圈，所述中转盘放置于所述密封圈上，由中转盘的底面、载料台的顶面、凸环及密封圈共同围绕形成密封腔，所述密封腔还通过气路外接真空系统，且中转盘上开设有若干与所述密封腔导通的真空吸孔。

5.根据权利要求4所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述升降驱动组件包括基板、驱动基板升降的升降驱动件以及分别用于限定基板升降行程的两端极限位置的上缓冲器和下缓冲器，所述升降驱动件、上缓冲器和下缓冲器均固设于支撑座上，所述基板底面设有若干个导向柱，且支撑座设有与所述导向柱对应配合的导向孔。

6.根据权利要求5所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述基板中部开设有通孔，所述旋转支撑组件包括转轴，所述转轴可旋转地组装于基板上的通孔内，且转轴顶端与载料台的底面相固定，所述转轴上还固定有传感片，基板底面对应向下伸出设置有由所述传感片旋转经过时而触发以对转轴的旋转圈数进行计数且电联接至控制模块的感应器。

7.根据权利要求6所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述吸附组件包括设置于转轴中心的气体通道以及设于转轴底端与所述气体通道相连通的气接头，转轴顶端设有与所述密封腔相连通的导气孔，所述气接头连接至真空系统。

8.根据权利要求6所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述旋转支撑组件还包括摩擦阻尼件，所述摩擦阻尼件包括与所述转轴同轴固定的摩擦轮、与摩擦轮对应配合的皮带、设于基板底面分别用于固定连接所述皮带两端的皮带夹座和皮带拉紧块以及连接于皮带拉紧块和皮带之间的拉簧，所述皮带的一端由所述皮带夹座夹紧锁固，所述皮带的另一端通过所述拉簧连接至所述皮带拉紧块。

9.根据权利要求1所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述中转盘的顶部为软质材料制成承载层，所述真空吸孔贯穿所述承载层，或者所述中转盘顶面放置有软质材料制成的垫板，且所述垫板上开设有与中转盘上的真空吸孔对应的透孔。

10.根据权利要求1所述的研磨扫光机半自动上下料机构，其特征在于：所述载料台的靠侧缘处装设有至少两个定位珠，且在所述载料台和中转盘上均对应开设有定位孔，中转盘放置于载料台上，所述定位珠插入所述定位孔内使所述中转盘与载料台在周向上相对定位；所述载料台外侧还设有若干对所述中转盘的侧边缘进行定位的侧向定位滚轮。