[实用新型]一种缓慢提升清洗架

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗架，尤其涉及一种缓慢提升清洗架。

背景技术

在电子元件生产过程中，硅片的清洗至关重要，清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各类污染物，并制做能够减少表面太阳光反射的绒面结构，且清洗的洁净程度直接影响着电池片的成品率和可靠率。制绒是制造晶硅电池的第一道工艺，又称“表面织构化”。有效的绒面结构使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光的吸收，降低了反射率，有助于提高电池的性能。现有技术中通过在盐酸槽中同时引入盐酸管道与氢氟酸管道，在氢氟酸槽中同时引入氢氟酸管道与盐酸管道，从而可方便地获得盐酸与氢氟酸的混合溶液，方便进行上述单晶硅片制绒的清洗。但是在实际清洗的过程中硅片在盐酸槽中液面扰动较大，从而对置于其中的硅片的细微元器件有可能造成一定的形变等。

现有的技术手段是通过机械手的抓取将产品片盒缓慢的放入清洗槽中，这种自上而下的放置方式容易对液面进行干扰，同时取出时也会对产品在溶液中的位置进行干扰，造成液面扰动很大，影响硅片的成品质量。

如果通过慢转电机可以实现缓慢提升的功效，但是电机配套的减速器占用空间很大，在清洗槽内都是溶液的情况下，很难分布，对于有限空间内如何利用电机运转成为厂家在制造设备时的一大难题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于：提供一种缓慢提升清洗架，将产品片盒置于清洗架中放入和取出溶液，在慢转电机的作用下保证提升过程的缓慢和平稳，减少对液面的扰动。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种缓慢提升清洗架，包括提升架、位于提升架下方的电机组件和产品片盒；所述的提升架位于所述的产品片盒的下方，承载所述的产品片盒；所述的电机组件位于所述的提升架的下方，通过履带与所述的提升架连接。

所述的提升架包括移动底板、升降滑轨、滑动护板、提升滑轮、限位顶板、限位底板、纵向底板和横向底板；所述的移动底板位于所的提升架的底部，与所述的限位底板相抵触；所述的升降滑轨竖直贯穿所述的移动底板，与所述的移动底板相配合，所述的移动底板在所述的升降滑轨上自由滑动；所述的滑动护板位于所述的升降滑轨上，与所述的升降滑轨相配合，同时与所述的限位底板固定连接；所述的限位顶板位于所述的升降滑轨的顶端，与所述的升降滑轨固定连接；所述的提升滑轮位于所述的限位顶板的两侧，与所述的限位顶板固定连接，同时通过履带分别与所述的移动底板和电机组件连接；所述的限位底板位于所述的滑动护板的下方，一端与所述的升降滑轨配合连接，下方与所述的移动底板相抵触，一端水平延伸，与所述的滑动护板固定连接；所述的纵向底板垂直于所述的限位底板，与所述的纵向底板固定连接；所述的横向底板平行与所述的限位底板，与所述的纵向底板固定连接。

进一步的，所述的移动底板上设置有滑动转轴；所述的滑动转轴有两个，对称分布在所述的移动底板上，通过履带与所述的提升滑轮连接。

进一步的，所述的升降滑轨、滑动护板、限位底板和提升滑轮的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的提升架的两侧。

进一步的，所述的滑动护板上设置有若干通孔。

进一步的，所述的纵向底板的数量不少于四个，外形与所述的产品片盒的底部相配合。

进一步的，所述的横向底板的数量不少于四个，两两分布在两个所述的纵向底板之间。

进一步的，所述的电机组件包括电机底板、传动转轴、驱动电机主轴、减速器、传动滑轮、转轴架和转轴底板；所述的电机底板位于所述的电机组件的最下方，与所述的转轴底板固定连接；电机位于所述的电机底板上，通过所述的驱动电机主轴与所述的减速器固定连接；所述的传动转轴贯穿所述的减速器，向所述的减速器的两侧延伸；所的转轴架位于所述的传动转轴的一端，所述的传动转轴穿过所述的转轴架；所述的转轴底板位于所述的转轴架的下方，与所述的转轴架和电机底板固定连接；所述的传动滑轮位于所述的传动转轴的一端外侧，同时位于所述的转轴架的外侧，与所述的传动转轴固定连接，通过履带与所述的提升架连接。

进一步的，所述的转轴架和传动滑轮的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的减速器的两侧。

与现有技术相比，本实用新型提供的一种缓慢提升清洗架可以通过电机慢转缓慢平稳地提升或下降整个提升架，将产品稳定地放入溶液中，通过电机组件降低转速，同时保证提升架的空间可以限制在清洗槽内，提高升降的平稳性，提高产品的质量。

附图说明

图1示出本实用新型的主视图。

图2示出本实用新型的左视图。