[实用新型]一种防止颗粒积累堵塞的联结结构有效
申请号: | 201720245874.2 | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN206613301U | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | 唐雄 | 申请(专利权)人: | 上海更日敦科技有限公司 |
主分类号: | B01D47/02 | 分类号: | B01D47/02;B01D51/00;F16L23/02 |
代理公司: | 上海国智知识产权代理事务所(普通合伙)31274 | 代理人: | 潘建玲 |
地址: | 201204 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防止 颗粒 积累 堵塞 联结 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体工艺废气处理领域,特别涉及一种防止颗粒积累堵塞的联结结构。
背景技术
联结结构即利用不同方式把机械零件联成一体的结构,机器设备由许多零部件组成,这些零部件需要通过联结来实现机器设备的职能,因而联结是构成机器设备的重要环节,一般的联结结构只起到联结零件的功能。
目前,在半导体工艺废气处理装置中,由于处理的工艺气体性质的原因,往往容易造成在装置的内壁上形成颗粒积累,继而造成装置内腔被堵塞的情况,并且,废气在经过处理后,温度很高,直接排出的话将会对下一级装置造成破坏。
因此,现有技术中急需一种能防止颗粒在装置内壁积累、降低处理气体温度的联结结构。
实用新型内容
本实用新型提供了一种防止颗粒积累堵塞的联结结构,技术方案如下:
一种防止颗粒积累堵塞的联结结构,其特征在于,包括内管和外管,内管的内径小于外管的内径,内管套在外管里,外管的下部设置有与内管内径相同的圆环,该圆环起到封闭的作用,内管焊接在圆环上,起到连接内管和外管的作用,外管上设置有涡流发生器,内管上设置有气体降温结构。涡流发生器为设置在外管上的4个互成90度的管口,各管口之间的距离相等,这4个管口分别连接4根水管,水管中通入循环水。气体降温结构为设置在内管上的8个通孔,各通孔之间的距离相等,该8个通孔均垂直于内管管壁,分别连接在自来水水管上,用于对气体降温。外管上部设置有第一法兰,用于联结设备上级处理器,内管下部设置有第二法兰,用于联结设备下级处理器。内管和外管为合金材料,该合金材料耐高温、耐腐蚀。第一法兰和第二法兰为不锈钢。
本实用新型的优点和积极效果在于:
1、设置有涡流发生器,防止颗粒在装置内壁积累。
2、用循环水形成涡流,避免水资源的浪费。
3、设置有气体降温结构,通入自来水,在极短时间内使处理气体温度骤降。
4、内管和外管均为合金材料,耐腐蚀、耐高温。
5、8孔喷射形成的水幕大大增加了目标气体与水的接触面积,从而使得单位体积的水可溶入更多的气体,提高了水利用率,降低设备的耗水量,同时提高了设备的处理效率,使处理气体温度骤降的功能,最大程度地保证了设备的可靠性,保证了前级生产设备的生产效率,大大降低了设备的PM频率。
6、结构简单,方便实用,可操作性强。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型:
图1是本实用新型一种防止颗粒积累堵塞的联结结构的结构示意图;
图2是本实用新型一种防止颗粒积累堵塞的联结结构的俯视图。
具体实施方式
本实用新型的核心是提供一种防止颗粒积累堵塞的联结结构,解决了在半导体工艺废气处理领域中,急需一种能防止颗粒在装置内壁积累、降低处理气体温度的联结结构的问题。
为了使本实用新型技术实现的措施、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。
如图1和图2所示,本实用新型提供了一种防止颗粒积累堵塞的联结结构,包括内管1和外管2,内管1的内径小于外管2的内径,内管1套在外管2里,外管2的下部设置有与内管1内径相同的圆环3,该圆环3起到封闭的作用,内管1焊接在圆环3上,起到连接内管1和外管2的作用,外管2上设置有涡流发生器4,内管1上设置有气体降温结构5。涡流发生器4为设置在外管2上的4个互成90°的管口,各管口之间的距离相等,这4个管口分别连接4根水管,水管中通入循环水。气体降温结构5为设置在内管1上的8个通孔,各通孔之间的距离相等,该8个通孔均垂直于内管1管壁,分别连接在自来水水管上,用于对气体降温。外管2上部设置有第一法兰6,用于联结设备上级处理器,内管1下部设置有第二法兰7,用于联结设备下级处理器。内管1和外管2为合金材料,该合金材料耐高温、耐腐蚀。第一法兰6和第二法兰7为不锈钢。
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