[实用新型]适合颗粒状粉体光学分析的进样分散回收系统有效
申请号: | 201720247407.3 | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN206531753U | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 黄廷磊;张姿 | 申请(专利权)人: | 黄廷磊;张姿 |
主分类号: | G01N15/00 | 分类号: | G01N15/00 |
代理公司: | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司45107 | 代理人: | 黄玮 |
地址: | 541004 广西壮族自治*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适合 颗粒状 光学 分析 分散 回收 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及粉体样品杂质分析仪器的辅助设施,具体为一种适合颗粒状粉体光学分析的进样分散回收系统。
背景技术
目前,在粉体样品杂质分析中,颗粒粉体的分散和回收主要是通过人工手动平铺以及人工清除,这种方式不仅效率低,而且人工铺粉的不稳定性很高,常因为抖动等原因,使得粉体的分散不均匀,清扫不干净,在进行粉体上料时,部分微小颗粒粉体极易四处扬起,导致物料的浪费,同时也污染了环境,若被工作人员吸入体内,对身体健康也会产生一定的影响。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型所要解决的技术问题是提出了一种铺粉均匀、效率高、有效保障工作人员身体健康的适合颗粒状粉体光学分析的进样分散回收系统。
能够解决上述技术问题的适合颗粒状粉体光学分析的进样分散回收系统,其技术方案包括对应于铺料平台设置的进出料装置和平铺清扫装置,其中:
所述进出料装置包括设于铺料平台一端上方的漏斗和与漏斗连接的均料机构,所述均料机构的出口下方设有将颗粒状粉体向铺料平台下料的出料斜板,均料机构中设有控制出料量的控制开关。
所述平铺清扫装置包括将下料的颗粒状粉体从下料端向前摊平而后将摊平的颗粒状粉体向后回收的平铺刮板和清扫刮板,所述平铺刮板和清扫刮板前、后竖直设置并通过弹性元件吊装于铺料平台上方悬伸的移动杆上,所述移动杆通过滑块滑动安装于铺料平台外设置的滑动导轨上,所述平铺刮板和清扫刮板的前、后行程大于铺料平台的前、后端,于前、后最大行程处所述平铺刮板和清扫刮板的底端低于铺料平台。
滑块于滑动导轨上作往复运动的诸多传动装置中,本实用新型采用电机驱动的曲柄摇杆机构。
所述曲柄摇杆机构的一种独特结构包括曲柄、连杆、限位杆和摇杆,所述电机设于平铺刮板和清扫刮板前、后行程的中部并处于铺料平台下方,所述曲柄、连杆和摇杆的首、尾端依次铰连,曲柄的另一端固连于电机的转轴上,所述摇杆的另一端铰连于滑块,所述限位杆的一端以空转方式安装在电机的转轴上,限位杆的另一端通过滑销滑动安装于连杆上开设的滑动槽内。
为使下料于铺料平台的粉体呈方形分布而利于后续作业,所述出料斜板的底部设有微型振动器。
为更好的铺平粉料,所述平铺刮板的底端面设计为光滑的斜面;为更好的清扫干净铺料平台上的粉料,所述清扫刮板的底端面设计为粗糙的斜面。
为避免浪费,所述铺料平台的下料端外设有通过回料斜板收集清扫料的回收容器。
本实用新型的有益效果:
本实用新型适合颗粒状粉体光学分析的进样分散和回收装置结构简单,可以自动进行粉体的分散和回收,易于操作,精度高,效率快,减少了对人体健康造成的危害。
附图说明
图1为本实用新型一种实施方式的结构主视图。
图2为图1实施方式的侧视图。
图号标识:1、铺料平台;2、漏斗;3、出料斜板;4、均料机构;5、平铺刮板;6、清扫刮板;7、滑块;8、滑动导轨;9、弹性元件;10、移动杆;11、曲柄;12、连杆;12-1、滑动槽;13、限位杆;14、摇杆;15、电机;16、微型振动器;17、回收容器;18、回料斜板;19、曲柄摇杆机构;20、铺料架;21、进出料架;22、平铺清扫架。
具体实施方式
下面结合附图所示实施方式对本实用新型的技术方案作进一步说明。
本实用新型适合颗粒状粉体光学分析的进样分散回收系统,其结构包括铺料平台1以及进出料装置和平铺清扫装置。
所述铺料平台1水平架设于铺料架20上,铺料平台1的后端(图1中的右端)后下方设有回收容器17,铺料平台1与回收容器17之间的铺料架20上设有回料斜板18,如图1、图2所示。
所述进出料装置设于铺料平台1后端上方,包括至上而下于内侧(图2中的左侧)进出料架21上设置的漏斗2、均料机构4和出料斜板3,所述均料机构4中设有控制下料量的控制开关,所述出料斜板3自后上方向前下方倾斜,出料斜板3的底部设有微型振动器16,如图1、图2所示。
所述平铺清扫装置包括平铺刮板5和清扫刮板6、滑动机构以及曲柄摇杆机构19:
所述滑动机构包括滑动配合的(直线)滑动导轨8和滑块7,所述滑动导轨8于前、后方向(图1中的左、右方向)水平安装于铺料平台1外侧(图2中的右侧)的平铺清扫架22上,滑动导轨8的长度大于铺料平台1的前、后长度(图1中的左、右端长度),滑动导轨8的高度大于铺料平台1的高度,如图1、图2所示。
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