[实用新型]一种升降机构及化学气相沉积装置有效
申请号: | 201720250121.0 | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN206706205U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 胡频升;吴海云 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L21/205 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李时云 |
地址: | 300385 天津市西青*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 升降 机构 化学 沉积 装置 | ||
1.一种升降机构,所述升降机构用于控制一托盘的上下高度调整,所述托盘位于一带有孔的基板之上,其特征在于,所述升降机构包括:
升降销,所述升降销穿过所述孔;
升降板,所述升降板位于所述基板的下方,当所述升降板上升时,所述升降板顶着所述升降销向上运动,所述托盘被所述升降销向上顶起;以及
制动装置,所述制动装置在所述升降板下降时,对所述升降销产生一向下的拉力。
2.如权利要求1所述的升降机构,其特征在于,所述基板上设置有至少两个孔,所述孔均匀对称分布在所述基板上,所述升降销的数量与所述孔的数量相匹配。
3.如权利要求1所述的升降机构,其特征在于,所述制动装置包括至少一个弹簧和至少一个固定件。
4.如权利要求3所述的升降机构,其特征在于,所述弹簧的一端通过所述固定件连接在所述基板的背部,所述弹簧的另一端与所述升降销相连。
5.如权利要求3所述的升降机构,其特征在于,所述弹簧为锥形弹簧。
6.如权利要求5所述的升降机构,其特征在于,所述锥形弹簧的尖端与所述升降销连接,所述锥形弹簧的另一端连接所述基板的背部。
7.如权利要求3所述的升降机构,其特征在于,所述弹簧的数量与所述升降销的数量相匹配。
8.如权利要求7所述的升降机构,其特征在于,每一个所述弹簧配置一个所述固定件。
9.如权利要求8所述的升降机构,其特征在于,所述固定件设置于所述基板的背部,且所述固定件分别位于每一个所述孔的周围。
10.如权利要求9所述的升降机构,其特征在于,每一个所述弹簧的一端通过一个所述固定件连接在所述基板的背部,每一个所述弹簧的另一端连接一个所述升降销。
11.如权利要求3所述的升降机构,其特征在于,每一个所述升降销上均设置一用于连接所述弹簧的安装孔。
12.如权利要求1所述的升降机构,其特征在于,所述升降机构还包括一控制系统,所述控制系统连接所述升降板,所述控制系统控制所述升降板的上升或者下降。
13.如权利要求1所述的升降机构,其特征在于,所述升降销的横截面形状与所述孔的横截面形状相匹配。
14.如权利要求13所述的升降机构,其特征在于,所述孔和所述升降销的横截面形状均为圆形。
15.如权利要求1至14中任意一项所述的升降机构,其特征在于,所述孔的侧壁设置有锯齿,所述锯齿引导所述升降销向下运动。
16.一种化学气相沉积装置,其特征在于,包括如权利要求1至15中任意一项所述的升降机构。
17.如权利要求16所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述化学气相沉积装置中,所述托盘为一晶圆托盘,所述基板为一加热基板,所述加热基板用于加热所述晶圆托盘。
18.如权利要求17所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述加热基板上设置有均匀对称分布的4个所述孔。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的