[实用新型]检测光路及用于安装检测光路的安装支架有效
申请号: | 201720252472.5 | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN207183213U | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 李文;韦孟锑;丁治祥;郑余;王美;黄浩;桑俞 | 申请(专利权)人: | 无锡奥特维科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/683;H01L21/67 |
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地址: | 214000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 用于 安装 支架 | ||
1.一种检测光路,其特征在于,所述检测光路包括检测通道、光源、反射装置、图像采集处理装置,其中:
所述检测通道被配置为安置待检测的硅片;
所述光源设置在所述检测通道的侧边,所述光源被配置为向所述检测通道所安置的硅片位置发射光线;
所述反射装置设置在所述检测通道与所述光源之间,所述反射装置被配置为将所述检测通道所安置的硅片所反射出来的光线反射到所述图像采集处理装置上,所述硅片所反射出来的光线是所述硅片对接收到的所述光源发射的光线反射得到的光线;
所述图像采集处理装置设置在所述检测通道的侧边,所述图像采集处理装置被配置为将所述反射装置反射出来的光线成像采集处理图像采集处理装置。
2.根据权利要求1所述的检测光路,其特征在于,所述光源包括安装在所述检测通道的上方的上光源、安装在所述检测通道下方的下光源及安装在所述检测通道侧边的侧光源。
3.根据权利要求2所述的检测光路,其特征在于,所述反射装置包括上反射装置与下反射装置,所述上反射装置设置在所述上光源与所述检测通道之间,所述下反射装置设置在所述下光源与所述检测通道之间。
4.根据权利要求3所述的检测光路,其特征在于,所述上反射装置包括第一直角三棱镜,所述下反射装置包括第二直角三棱镜。
5.根据权利要求4所述的检测光路,其特征在于,
所述第一直角三棱镜的第一直角面平行于所述检测通道所在的平面,所述第一直角三棱镜的第二直角面靠近所述图像采集处理装置设置;
所述第二直角三棱镜的第一直角面平行于所述检测通道所在的平面,所述第二直角三棱镜的第二直角面靠近所述图像采集处理装置设置。
6.根据权利要求1至5中任一所述的检测光路,其特征在于,所述图像采集处理装置为相机。
7.一种用于安装如权利要求3-5之一所述的检测光路的安装支架,其特征在于,所述安装支架包括用于安装所述检测光路中的反射装置的支撑架,所述支撑架设有豁口,所述上反射装置设置在所述豁口上侧,所述下反射装置设置在所述豁口下侧,所述支撑架上还包括用于安装所述上光源的上光源安装座、用于安装所述下光源的下光源安装座、用于安装所述侧光源的侧光源安装座和用于安装所述图像采集处理装置的相机座,所述安装支架还包括支撑杆以及横移装置,所述支撑架通过锁紧装置安装在所述支撑杆上,所述支撑杆相对于所述支撑架的高度可调,所述支撑杆安装在所述横移装置上,所述横移装置被配置为带动所述支撑杆移动。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造