[实用新型]一种18兆高纯水生产线

说明书

技术领域

本发明涉及高纯水制备技术领域，具体地指一种18兆高纯水生产线。

背景技术

电子产品工业的水处理与普通除盐水制备的要求完全不同，在电子产品生产过程中，绝对必要的一点在于，所用设备、填料不能释放任何能引起TOC、沉淀和腐蚀的离子或物质，与此同时，对水质电导率的要求要大于18兆欧姆/厘米，将这种高纯水命名为18兆高纯水。

该要求广泛应用于电子工业中电子元器件、半导体、超大规模集成电路、彩色显象管、计算机部件的生产和清洗用超纯水制备、医药和生物化学行业高纯水制备、高档光学器材以及其它各种水处理工艺的后续纯水精制处理等等。

同时，电子产业的飞速发展，其生产需要的配套产品需求也大大提高。电子产品对精度要求高，因而对电子元件的清洗要求也是很高的。在特殊电子行业的超纯水精制中，如生产磁盘驱动器、显示设备、CD－ROM、独立的半导体设备、低密集成电路，或者用于后级集成电路的分块和配件操作中。这些应用即需要有高纯度的水质，又需要具有经济性。

授权公告号为CN 203419809 U的实用新型专利公开了一种玻璃镀膜生产线的纯水系统，其依次采用石英砂过滤器、活性炭过滤器、超滤过滤器、反渗透过滤器和EDI电去离子装置处理原水，使其能够达到玻璃镀膜生产线的用水要求，但其电导率维持在16兆欧姆/厘米左右，距离电子产业用水尚存在一定差距。

实用新型内容

本实用新型的目的就是要提供一种18兆高纯水生产线，其涉及设备不繁杂，且连接次序严谨有序，能够生产电阻率大于18兆欧姆/厘米的高纯水，出水水质稳定。

为实现上述目的，本实用新型所设计的一种18兆高纯水生产线，其按水流顺序依次包括原水箱、预处理生产线、预处理水箱、一级精制生产线、一级精制水箱、二级精制生产线、二级精制水箱和抛光混床处理设备；

所述预处理生产线依次包括一个原水泵和设置在所述原水泵之后的多介质过滤设装置和超滤过滤装置；

所述一级精制生产线包括一个高压泵和设置在所述高压泵之后的反渗透膜过滤装置；

所述二级精制生产线包括一个增压泵和设置在所述增压泵之后的填充床电渗析装置。

填充床电渗析装置是在电渗析器的隔膜之间装填阴阳离子交换树脂、将电渗析与离子交换有机的结合起来的一种水处理技术，英文缩写EDI或CDI；与普通电渗析相比，由于淡室中填充了离子交换树脂，大大提高了膜间导电性，显著增强了由溶液到膜面的离子迁移，破坏了膜面浓度滞留层中的离子贫乏现象，提高了极限电流密度；与普通离子交换相比，由于膜间高电势梯度，迫使水解离为H+和OH-，H+和OH-一方面参预负载电流，另一方面可以又对树脂起就地再生的作用，因此EDI不需要对树脂进行再生，可以省掉离子交换所必需的酸碱贮罐，也减少了环境污染。

作为上述技术方案的优选，所述二级精制水箱和所述抛光混床处理设备之间的管路上、与所述一级精制水箱之间设置有检测回路，所述检测回路上设置有电导率测试装置。

所述电导率测试装置用于检测进入抛光混床处理设备之前的水质是否达标，该标准为水质的电阻率在16兆欧姆/厘米左右。

作为上述技术方案的优选，所述抛光混床处理设备为一个罐体，所述罐体内设置有高纯水导出管，所述高纯水导出管的周围设置有阴阳树脂的混合体；

所述高纯水导出管的上端面与所述罐体的上端面密封连接、下端面设置有带滤网的开口，与所述罐体内部相连通；

经所述二级精制水箱流出的水体从所述抛光混床处理设备的上方进入，流经阴阳树脂的混合体后经所述高纯水导出管由下至上导出。

所述阴阳树脂的混合体采用抛光树脂的氢型强酸性阳离子交换树脂及氢氧型强碱性阴离子交换树脂混合而成，除了降低电导率外，其对TOCs和水中的二氧化硅含量均能够有效的进行消除。

作为上述技术方案的优选，所述抛光混床处理设备的出口与所述二级精制水箱之间设置有循环回路，所述循环回路上设置有高纯水出口。

作为上述技术方案的优选，所述多介质过滤装置内按照水流方向依次设置有填充有石英砂的砂滤部和填充有活性炭的吸附部。

作为上述技术方案的优选，所述反渗透过滤装置依次包括一级反渗透过滤装置和二级反渗透过滤装置。

作为上述技术方案的优选，所述循环回路、所述二级精制水箱和所述填充床电渗析装置之间的管路上，均设置有紫外线消解杀菌装置。

作为上述技术方案的优选，所述超滤过滤装置、所述填充床电渗析装置的入水口处均设置有保安过滤器，所述保安过滤器为由数支微滤膜串联构成的过滤器。