[实用新型]一种真空吸盘有效

专利信息
申请号: 201720255151.0 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN206536498U 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 王文坚;雷伟;杜汉卿;张斗庆;凌杰 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B25J15/06 分类号: B25J15/06
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 郭润湘
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸盘
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种真空吸盘。

背景技术

现有技术中,真空吸盘采用了真空原理,即用真空负压来“吸附”工件以达到夹持工件的目的。如图1所示,真空吸盘11的通气口12与真空发生装置相接,当真空发生装置启动后,通气口12通气,真空吸盘内部的空气被抽走,形成了压力为P2的真空状态。此时,真空吸盘内部的空气压力低于外部的大气压力P1,即P2<P1,工件13在外部的大气压力的作用下被吸起。真空吸盘内部的真空度越高,真空吸盘与工件之间贴的越紧。

真空吸盘与被吸附工件表面的贴合程度直接影响着真空吸盘内的真空压力,若贴合程度过差,真空吸盘的真空度不易保持,就达不到吸附工件的目的。在使用时,保证工件与真空吸盘接触的那部分表面是光滑和密封的,才有利于吸盘牢牢抓住工件表面。

然而,现有技术中,利用以上真空吸盘吸附印刷电路板(Printed Circuit Board Assembly,FPCA)、软性电路板(Flexible Printed Circuit Assembly,PCBA)这样的工件时,由于FPCA、PCBA元器件排布越来越密集,尺寸越来越小,导致给真空吸盘预留的平整度高的地方几乎不存在,导致真空吸盘的真空度不易形成并保持,抛料(脱落)率非常高。

实用新型内容

本实用新型实施例的目的是提供一种真空吸盘,用于降低真空吸盘吸附工件过程中的抛料率。

本实用新型实施例的目的是通过以下技术方案实现的:

一种真空吸盘,包括:多个子吸盘以及具有通气口的真空腔体;其中:

各所述子吸盘分别与所述真空腔体相连通;

各所述子吸盘的吸附面的面积不大于被吸附工件中最小元器件被吸附表面的面积。

较佳地,各所述子吸盘的吸附面的面积不大于0.5cm2

较佳地,各所述子吸盘的吸附面的直径不大于被吸附工件中各元器件被吸附表面的最小宽度。

较佳地,各所述子吸盘的直径不大于0.5cm。

较佳地,各所述子吸盘在垂直于所述吸附面的方向上可伸缩。

较佳地,各所述子吸盘相对所述真空腔体的表面缩进的最大长度不小于最厚的被吸附工件的厚度。

较佳地,各所述子吸盘为管状;所述管状的子吸盘通过管状伸缩部件与所述真空腔体相连通。

较佳地,各所述子吸盘的吸附面的材质为弹性材质。

较佳地,所述弹性材质为橡胶材质。

较佳地,所述子吸盘的总数量不小于被吸附工件中元器件的数量。

本实用新型实施例的有益效果如下:

本实用新型实施例中,真空吸盘上设置有多个吸附面的面积较小的子吸盘,可以使得大部分的子吸盘与各元器件的接触面光滑封闭,更能适应工件上元器件尺寸变小的情况,提高了吸附力,降低了抛料率。

附图说明

图1为现有技术中一种真空吸盘的结构示意图;

图2为本实用新型实施例提供的一种真空吸盘的结构示意图;

图3为本实用新型实施例提供的真空吸盘的工作原理示意图之一;

图4为本实用新型实施例提供的真空吸盘的工作原理示意图之二;

图5为本实用新型实施例提供的各子吸盘的俯视图;

图6为本实用新型实施例提供的一种子吸盘的具体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型提供的一种真空吸盘进行更详细地说明。

本实用新型实施例提供一种真空吸盘,如图2所示,包括:多个子吸盘21以及具有通气口22的真空腔体23;其中:

各子吸盘21分别与真空腔体23相连通;

各子吸盘21的吸附面24的面积不大于被吸附工件中最小元器件被吸附表面的面积。

本实用新型实施例中,真空吸盘上设置有多个吸附面的面积较小的子吸盘,可以使得大部分的子吸盘与各元器件的接触面光滑封闭,更能适应工件上元器件尺寸变小的情况,提高了吸附力,降低了抛料率。

在实施中,通气口22用于与抽真空装置相连接,真空吸盘的子吸盘21吸附到工件的表面后,由于子吸盘21是与真空腔体23相连通的,抽真空装置通过通气口22将真空腔体23及子吸盘21内的气体抽走,形成真空环境,内部压强小于外部压强,子吸盘21就可以将工件吸附起来。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720255151.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top