[实用新型]干版曝光装置有效
申请号: | 201720293206.7 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN207067659U | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 杜武兵;黄国勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙)44320 | 代理人: | 肖伟 |
地址: | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干版 曝光 装置 | ||
技术领域
本实用新型实施例涉及干版曝光技术领域,尤其涉及一种干版曝光装置。
背景技术
在PCB,FPC等线路板的相关光罩加工过程中,常常会使用到干版。现有的干版曝光处理通常都是采用传统的干版光绘机进行曝光,由于干版曝光所需能量低,因此,现有的干版光绘机采用能量密度较小的绿光源,由于绿光源功率低,能量低至只有几毫瓦,虽然不会对干版造成损伤,但也导致现有的干版曝光所需时长较长且精度较低,使得曝光效率低。
实用新型内容
本实用新型实施例要解决的技术问题在于,提供一种干版曝光装置,以提高干版曝光效率和精度。
为解决上述技术问题,本实用新型实施例提供如下技术方案:提供一种干版曝光装置,所述干版曝光装置包括用于放置干版的载料台、用于产生激光以照射放置在载料台上的干版的激光头以及设置于激光头与载料台之间用于对激光头所发出的激光进行滤光处理的滤光片。
进一步地,所述激光头为蓝光激光头。
进一步地,所述蓝光激光头为半导体侧面泵浦激光模块。
进一步地,所述滤光片采用中心波长为390nm~410nm之间的带通型滤光片。
采用上述技术方案后,本实用新型实施例至少具有如下有益效果:本实用新型实施例通过滤光片对激光头所发射的激光进行部分能量的吸收,使得激光头所发射的激光的能量适用于干版,能有效的提高干版曝光的速率和精度,从而提高干版的曝光效率,降低加工成本;另一方面,通过改变滤光片的规格大小,可以根据实际需要选择不同波长的滤光片,从而达到过滤部分波长的激光和降低能量的效果,使得激光头所发射的激光适用于曝光不同的干版。
附图说明
图1是本实用新型干版曝光装置一个实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详细说明。应当理解,以下的示意性实施例及说明仅用来解释本实用新型,并不作为对本实用新型的限定,而且,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。
如图1所示,本实用新型实施例提供一种干版曝光装置,所述干版曝光装置包括用于放置干版3的载料台5、用于产生激光以照射放置在载料台5上的干版3的激光头1以及设置于激光头1与载料台5之间用于对激光头1所发出的激光进行滤光处理的滤光片2。
本实用新型实施例通过滤光片2对激光头1所发射的激光4进行部分能量的吸收,使得激光头1所发射的激光4的能量适用于干版,能有效的提高干版3曝光的速率和精度,从而提高干版3的曝光效率,降低加工成本;另一方面,通过改变滤光片2的规格大小,可以根据实际需要选择不同波长的滤光片2,从而达到过滤部分波长的激光和降低能量的效果,使得激光头1所发射的激光4适用于曝光不同的干版3。
在一个具体实施例中,所述滤光片2采用中心波长为390nm~410nm之间的带通型滤光片。
本实施例中,所述滤光片2为玻璃材质,表面涂有暗物质,能达到吸收特定波长的激光的作用;其中心波长为390nm~410nm之间,优选的,其中心波长为400nm,半带宽可根据需求进行不同程度的调整,根据需要有1%、10%、20%、30%、40%、50%等不同规格(百分比规格表示:激光通过相关规格的滤光片后输出能量只有原来的百分比值),根据曝光机设备的光路相应制作满足需求的尺寸,尺寸多样化。
在一个可选实施例中,所述激光头1为蓝光激光头,具体地,所述蓝光激光头为半导体侧面泵浦激光模块。
本实施例中,所述蓝光激光头采用半导体侧面泵浦激光模块,输出功率高,寿命长,便于维护,内置循环水冷却以保证激光稳定输出,可长时间连续工作;具备以下特点:
1)温控、驱动和激光头完全集成,结构小巧紧凑,外部只需直流供电;
2)经过高低温存储和振动冲击测试,具有可靠的稳定性,环境温度在-15~45度范围时,可24小时连续稳定工作;
3)具有数字调制功能和模拟调制功能;
4)冗余的散热设计、双向温控和完善的双向温度保护功能,可以保证宽广的工作温度范围而不会影响激光头的寿命。
目前市场上的蓝光激光头通常功率较高,能达到10W~25W左右,通过滤光片2的作用之后,能够快速的对干版3进行精准的曝光,有效的提高干版3的曝光效率。
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