[实用新型]一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签有效
申请号: | 201720294462.8 | 申请日: | 2017-03-22 |
公开(公告)号: | CN206805916U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 刘华 | 申请(专利权)人: | 珠海市嘉滕印务有限公司 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02;G02B27/22 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 温旭 |
地址: | 519000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 立体 凸透镜 阵列 三维立体 标签 | ||
技术领域
本实用新型涉及标签技术领域,特别涉及一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签。
背景技术
众所周知,品牌是企业所提供产品与服务质量的信誉保证,是消费者识别商品差异化的标志,其中蕴含着企业的无形资产。根据国际反假冒联盟估计,全球假冒品产值约占国际贸易额的5%~7%,每年超过5000亿美元,分布在包括药品、医疗器械、食品、汽车零部件、电子零部件、软件、消费品等多个领域。随着全球防伪需求的增长,防伪标签行业也快速发展起来。防伪标签是指能粘贴、印刷、转移到标的物或标的物包装及物附属物的表面,并具有防伪作用的标识。防伪标签不仅能起到品牌保护的作用,还具有营销及向消费者传递产品信息的作用。为了达到防伪的目的,防伪标签必须同时在七个方面达到一定要求,即具备身份唯一性、稳定期、安全期、防伪力度、使用适应性、识别性能、使用环境要求、技术安全保密性。其中身份唯一性是对高级别防伪标签最核心的要求。虽然已有的防伪标签多种多样,如全息防伪标签、印刷防伪标签、双卡防伪标签、图形输出激光防伪标签、核微孔防伪标签、图文揭露防伪标签、隐形图文防伪标签、磁码防伪标签、标记分布防伪标签、覆盖层防伪标签、原光光雕防伪标签、RFID电子标签、DNA防伪标签、双螺旋彩码防伪标签、形状记忆防伪等,且这些防伪标签的工作原理不尽相同,但原则上说上述防伪标签都难以同时满足身份唯一性和易于识别性两个方面的要求。
目前的图形标签主要存在标签容易复制或伪造、标签容易被转移、识别过程繁琐以及对用户要求较高的问题,因此,发明一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签来解决上述问题很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签,包括标签主体、标签底层和标签表层,所述标签底层设置于标签主体底部,所述标签底层表面设有微缩图形,所述标签表层设置于标签底层顶部,所述标签表层表面设有凸透镜,所述所述标签表层与标签底层通过高精覆合而成。
优选的,所述微缩图形与凸透镜均以线性阵列形式排列。
优选的,所述微缩图形与凸透镜数量均设置为多个。
优选的,所述微缩图形与凸透镜为一一对应的关系。
优选的,所述微缩图形设置为具有动态效果的图形。
本实用新型的技术效果和优点:此标签主体由两层组成,标签底层是微缩图形,标签表层是凸透镜阵列薄膜,凸透镜阵列上每一个凸透镜对应一个设计成具有动态效果的微缩图形,最后通过高精覆合而成,工艺简单,使用方便,具有良好的使用环境,适用于所有印刷行业。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图中:1标签主体、2标签底层、3微缩图形、4标签表层、5凸透镜。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1所示的一种基于立体凸透镜阵列的三维立体标签,包括标签主体1、标签底层2和标签表层4,所述标签底层2设置于标签主体1底部,所述标签底层2表面设有微缩图形3,所述标签表层4设置于标签底层2顶部,所述标签表层4表面设有凸透镜5,所述所述标签表层4与标签底层2通过高精覆合而成。
所述微缩图形3与凸透镜5均以线性阵列形式排列,所述微缩图形3与凸透镜5数量均设置为多个,所述微缩图形3与凸透镜5为一一对应的关系,所述微缩图形3设置为具有动态效果的图形。
本实用工作原理:此标签主体1由两层组成,标签底层2是微缩图形,标签表层4是凸透镜阵列薄膜,凸透镜阵列上每一个凸透镜5对应一个设计成具有动态效果的微缩图形,最后通过高精覆合而成。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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