[实用新型]离子注入跑片机

权利要求书

1.一种离子注入跑片机，其特征在于，包括水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区、单个托盘水平传送区和托盘垂直输送切换储存区，所述单个托盘水平传送区的中部设有离子注入工位，所述水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区和托盘垂直输送切换储存区的底部均设有真空发生装置，所述水平进出传送区内从上而下依次间隔设有五条可相互调节间距的水平皮带传送线，五条水平皮带传送线同时输送五个硅片托盘，五个所述硅片托盘由一带脚轮的推车同时推入五条所述水平皮带传送线上；所述硅片托盘正向依次经过所述水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区、单个托盘水平传送区和托盘垂直输送切换储存区，在所述托盘垂直输送切换储存区进行离子注入孔切换动作后反向依次经过单个托盘水平传送区、托盘垂直输送缓冲区和所述水平进出传送区；所述硅片托盘正向经过离子注入工位时注入的离子与所述硅片托盘反向经过离子注入工位时注入的离子不同。

2.根据权利要求1所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述硅片托盘上设有多条平行设置的滑轨，多条所述滑轨共同安装有一隔板，所述隔板可以沿所述滑轨移动，所述隔板上具有两排离子注入孔，两排离子注入孔的位置相互交叉错开，两排所述离子注入孔的错位距离为10μm～50μm，所述隔板的宽度小于所述硅片托盘的宽度，所述硅片托盘上平面中部排列设置有若干片硅片，所述隔板的两排离子注入孔交替挡在所述硅片的正上方。

3.根据权利要求2所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述水平进出传送区的一侧设有第一电磁离合器，所述第一电磁离合器控制五条所述水平皮带传送线调节间距，五条所述水平皮带传送线上的硅片托盘全部到位后，五条所述水平皮带传送线开始输送硅片托盘，如果有其中一条水平皮带传送线的硅片托盘没有到位，其它四条水平皮带传送线也不能输送硅片托盘。

4.根据权利要求3所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述托盘垂直输送缓冲区的前后两侧均设有第二电磁离合器，所述托盘垂直输送缓冲区的空腔前后侧壁上分别设有五条硅片托盘缓冲输送线和两条异形同步带垂直输送装置，两条所述异形同步带垂直输送装置上的同步带上间隔设有多个将硅片托盘缓冲输送线上的硅片托盘取出送入所述单个托盘水平传送区的取料片；所述托盘垂直输送缓冲区的前后两侧均设有缩回干扰装置，所述异形同步带垂直输送装置取硅片托盘缓冲输送线上的硅片托盘时，所述缩回干扰装置控制干扰杆缩回；所述托盘垂直输送缓冲区的底部设有将取料片上的硅片托盘推入所述单个托盘水平传送区上的第一水平推料气缸。

5.根据权利要求4所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述单个托盘水平传送区内设有两组水平输送皮带，离子注入工位位于两组所述水平输送皮带之间，离子注入工位的正下方设有法拉第杯。

6.根据权利要求1所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述托盘垂直输送切换储存区的前侧壁和内侧壁上均设有异形同步带垂直取料装置，所述托盘垂直输送切换储存区的底部设有将单个托盘水平传送区输送的硅片托盘水平推入异形同步带垂直取料装置的第二水平推料气缸、及将异形同步带垂直取料装置上的硅片托盘推向单个托盘水平传送区的第三水平推料气缸，所述第三水平推料气缸推动硅片托盘进入单个托盘水平传送区时，所述硅片托盘上的隔板推向硅片托盘的另一侧，隔板上的另一排离子注入孔挡在所述硅片的正上方。

7.根据权利要求1所述的离子注入跑片机，其特征在于，所述硅片托盘正向经过离子注入工位时注入的离子为n﹢型离子或p﹢型离子，所述硅片托盘反向经过离子注入工位时注入的离子n﹢型离子或p﹢型离子。