[实用新型]一种真空快速去除溶剂的装置

说明书

技术领域

本发明属于环境科学领域，尤其涉及一种真空快速去除溶剂的装置。

背景技术

目前在针对去除有机或是无机化学合成产物中的溶剂，多采用热蒸发、或是低沸点溶剂交换的方式，但因某些有机或是无机化学合成产物中，所生成的产物结构或是性质不稳定，易受热分解、氧化、溶剂极性破坏等其他不利因素的影响，不能及时有效地脱去产物中的低沸点或强极性的溶剂，从而导致实验的失败。实际情况中实验室中固体薄膜钙钛矿太阳能电池中低沸点溶剂无法做到完全去除，钙钛矿层成矿的致密精度和均匀程度就无法达到设定的要求及标准。而真空技术可以在保证物质在不被破坏的情况下，确保产物的纯净和性质稳定。

发明内容

本发明的主要目的是为了解决现有技术的不足，利用高真空方式，在极短时间内将产物周围压强降至极小，利用在低压状态下，物质沸点降低的原理，在不破坏物质结构和性质的前提下，将产物中残留的溶剂去除，提供了一种真空快速去除溶剂的装置，上述目的通过下述的技术方案来实现：

所述真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，所述壳体设有一浅孔，所述浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，所述密封圈支撑于所述台阶上，所述密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，所述真空挡板阀通过与所述通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的的侧壁上开设有排气孔，所述细管道通过与所述排气孔相连实现与真空腔室的连通。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述密封盖由钢结构的包边和高硼硅视镜玻璃体组成，所述包边包绕于所述高硼硅视镜玻璃体。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述高硼硅视镜玻璃体相对于密封圈的一侧设有弧形的凹陷曲面，形成凹坑。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，凹坑的外圈的长度与真空腔室的宽度相等。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，支撑脚呈直角状，总共为四个。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述真空挡板阀通过不锈钢真空管道可拆卸地与蒸镀设备的真空机械泵连接。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述不锈钢真空管道上设置有三通阀。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述三通阀通过真空卡箍固定于不锈钢真空管道。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述真空腔室内设置有电池。

本发明的有益效果：

本发明的真空快速去除溶剂的装置主要是为了将钙钛矿中钙钛矿层前期成矿时期溶剂去除，本发明利用真空情况下溶剂低压沸腾的原理，使得溶剂自主蒸发，装置可以使钙钛矿层更加致密均匀并且可以控制膜层厚度。

该装置借用真空镀膜机真空抽取能力，将装置和蒸镀腔室链接在一起，作为附件，本装置不影响真空蒸镀机腔室的工作，能同时满足快速去除样品中残留溶剂和蒸镀工作的同时开展。

装置通过真空挡板阀和带有控制阀的细管道和真空腔室组成，结构简单，操作方便，实用性高。

附图说明

图1是真空快速去除溶剂的装置的俯视示意图。

图2是图1所示真空快速去除溶剂的装置的俯视示意图的AA剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。

如图1、图2，本实施例的真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接。本实施的真空快速去除溶剂的装置包括壳体1、密封盖5、密封圈2、真空挡板阀7以及带有控制阀81的细管道8。壳体1设有一浅孔11，浅孔11内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚3，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶12。密封圈2支撑于台阶12上，密封盖5压盖于密封圈2上与浅孔11的底部形成真空腔室6（即为图中的阴影处），浅孔11的底部开设通孔4。真空挡板阀7通过与通孔4相连实现与真空腔室6的连通。为了在抽完后将气体放入，以平衡腔室内的压强，本发明的技术方案在浅孔11的的侧壁上开设有排气孔，细管道通8过与排气孔相连实现与真空腔室6的连通。通孔4的半径为0.6-0.8cm，本实施例中的通孔4采用优选的技术方案，将半径设定为0.7cm。密封圈的厚度为0.25-0.35cm，本实施例中密封圈的厚度采用优选的技术方案，将密封圈的厚度设定为0.3cm。由于壳体1需要在高真空状态下工作，因此壳体1采用高硬度的材料