[实用新型]一种性能稳定的干式电抗器有效
申请号: | 201720320309.8 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN206649993U | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 杜泓九;洪伟;武军;刘振鹏 | 申请(专利权)人: | 秦皇岛秦抗电气科技股份公司 |
主分类号: | H01F37/00 | 分类号: | H01F37/00;H01F27/30 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 066200 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 性能 稳定 电抗 | ||
技术领域
本实用新型涉及电抗器领域,更具体的,涉及一种性能稳定的干式电抗器。
背景技术
电抗器是重要的的电力设备,在电力系统中起补偿杂散容性电流、限制合闸涌流、限制短路电流、滤波、平波、启动、防雷、阻波等作用。干式铁心电抗器主要由铁心、线圈构成。铁心可分为铁心柱与铁轭两部分,铁心柱通常是由铁饼与气隙组成。线圈与铁心柱套装,并由端部垫块固定,铁轭则包括分别位于铁心柱上下两侧的上铁轭和下铁额。电抗器在使用过程中线圈部分和铁芯容易产生相对位移从而使得电抗器性能受到影响,基于上述问题,有必要对现有技术进行改进。
实用新型内容
针对现有技术中存在的不足,本实用新型提供了一种性能稳定的干式电抗器。
本实用新型是通过如下技术方案实现的:一种性能稳定的干式电抗器,包括铁心、线圈和夹持部件,铁心包括上铁轭、铁心柱和下铁轭,线圈套设在铁心柱外部,夹持部件包括位于上铁轭两侧的上夹件,以及位于下铁轭两侧的下夹件,上铁轭和下铁轭分别通过上夹件和下夹件夹装固定,所述线圈上下两端和所述上铁轭和所述下铁轭之间存在间隙,在所述间隙内设置有软性的绝缘垫圈,所述绝缘垫圈在竖直方向的投影部分位于所述铁心柱的端面上。
上述技术方案中,所述绝缘垫圈在竖直方向位于铁心柱的投影和位于线圈部分的投影宽度比例控制在0.25至0.3之间。
上述技术方案中,所述绝缘垫圈为充气密封圈。
上述技术方案中,在所述上铁轭上拧设有调压螺母,所述调压螺母与所述绝缘垫圈抵靠。
本实用新型具有如下有益效果:本实用新型杜绝了电抗器在使用过程中线圈部分和铁芯容易产生相对位移的弊端,从而使得电抗器性能不会受到上述问题的影响。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的俯视示意图。
图3为本实用新型部分结构示意图。
图4为本实用新型侧视示意图。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。参见图1至图4,一种性能稳定的干式电抗器,包括铁心1、线圈2和夹持部件3。铁心包括上铁轭10、铁心柱 12和下铁轭11。线圈2套设在铁心柱12外部。
所述夹持部件3包括位于上铁轭10两侧的上夹件30,以及位于下铁轭11两侧的下夹件31。上铁轭10和下铁轭11分别通过上夹件30和下夹件31夹装固定如图2所示,上夹件30和下夹件31为间隔设置的两条形板件,在所述上夹件30的宽度方向连接有两连接板300用于将两条线板连接成为一体,所述上铁轭10和下铁轭11被夹紧在其之间。
所述铁心柱12采用多气隙分布铁饼叠加形成,其位于下铁轭11上,通过上铁轭10 和自重压紧固定。为了进一步减少铁心柱12在电抗器使用时产生的振动,本申请中在所述上夹件30和所述下夹件31之间穿过有铁心柱拉杆4,所述铁心柱拉杆4下端(即与下夹件 31配合的端部)设置有锁紧螺母40,在所述铁心柱拉杆4上端设置有吊环螺母41。通过设置铁心柱拉杆41从而将铁心饼压紧,从而减小机械振动和机械噪声。更进一步优选的,所述锁紧螺母和所述吊环螺母上设置防松垫圈(附图未示出),这样便减少了在电抗器使用过程中,螺母因整机振动而产生松动而导致其预紧力发生改变的可能,最终,使得铁心柱拉杆 4的预压力能够维持在一恒定数值。
线圈2为树脂浇注一体成型结构。将线圈2套装于铁心柱12后,线圈2上下两端和所述上铁轭10和所述下铁轭11之间存在间隙。为了减少线圈2在上述间隙中可能产生的位置偏移,在所述间隙内设置有软性的绝缘垫圈5。进一步优选的,为了防止线圈2在套设在铁心柱12后两者可能产生的相对位置偏移,所述绝缘垫圈5在竖直方向的投影部分位于所述铁心柱12的端面上,在实际试验过程中,本申请人发现,通过将所述绝缘垫圈5在竖直方向位于铁心柱12的投影和位于线圈2部分的投影宽度比例控制在0.25至0.3之间能够取得最佳的技术效果。在所述上铁轭10上拧设有调压螺母6,所述调压螺母6与所述绝缘垫圈5抵靠。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进,上述变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。
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