[实用新型]一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种溅射镀膜装置，特别是一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统。

背景技术

在LCD设备生产过程中，镀膜是其中一项关键的工序，如图1所示，现有的溅射镀膜装置中，平面靶材安装在孪生平面阴极矩形管腔上，管腔内底板001上安装有永久磁铁002，磁铁产生磁力线覆盖着整个靶面003宽度，从靶表面释放的电子受到洛伦磁力的作用，向与磁场和电场正交的方向飞行。电子会在阴极上沿着螺旋线运动，就像在一条跑道上一样，靶材前面电场与磁场近乎正交，洛伦磁力最大，会形成离子云。靶的刻蚀主要发生在离子云下，随着刻蚀的进行，逐渐在靶的表面刻蚀出一个环形跑道，到了靶的使有后期靶表面的非刻蚀区域电荷容易聚积，到一定量会产生放电打弧，另外靶的溅射槽内由于不规则的刻蚀所造成的峰值放电也会产生打弧，形成打弧坑，当打弧坑的高度大于低厚盒产品高度时，会造成LCD产品的短路不良。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种能有效避免在靶上产生放电打弧、降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统。

本实用新型解决其问题所采用的技术方案是：

一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统，包括溅射腔，所述溅射腔内设置有承载待镀膜LCD玻璃的载板和两套旋转溅射装置，所述旋转溅射装置包括环形靶柱和带动环形靶柱旋转的传动装置，所述环形靶柱内固定有两个以上的磁钢，相邻磁钢面向环形靶柱的极性相反，所述环形靶柱内还设置有端部固定块，所述磁钢固定于端部固定块中，所述端部固定块与环形靶柱之间设置有轴承，所述环形靶柱围绕磁钢转动，所述端部固定块与环形靶柱之间构成一密闭的注水腔，还包括一水循环装置，所述注水腔通过水循环管道与水循环装置连接。

本发明一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统，通过在磁钢外设置有围绕其不断转动的环形靶柱，因此在溅射时不会在靶的某个固定位置产生刻蚀，能均匀利用靶柱，避免由于不规则刻蚀所造成的峰值放电而让膜层出现打弧坑的现象，有效降低LCD低盒厚产品的不良率；另外，由于在溅射过程中会产生高温，本发明通过在环形靶柱中的注水腔注入来自水循环装置的循环水，能不断为环形靶柱降温，提高系统的稳定性和耐用性。

具体地，所述传动装置包括用于带动环形靶柱转动的旋转块和电机，所述电机通过齿轮组件带动旋转块转动。从而带动环形靶柱不断围绕磁钢转动。

进一步，所述旋转块设置于一冷却腔体内，所述冷却腔体通过水循环管道与水循环装置连接。通过在冷却腔体注入来自水循环装置的循环水，能对不断旋转而产生高温的旋转块进行冷却，提高系统的可靠性。

具体地，所述环形靶柱内设置有3个磁钢。

进一步，所述环形靶柱整体由氧化硅组成。

附图说明

下面结合附图和实例对本实用新型作进一步说明。

图1为现有技术的结构示意图；

图2是本实用新型双旋转阴极镀膜系统的俯视图；

图3是本实用新型双旋转阴极镀膜系统的剖视图。

具体实施方式

参照图2至图3所示，本实用新型的一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统，包括溅射腔，所述溅射腔内设置有承载待镀膜LCD玻璃的载板1和两套旋转溅射装置2，所述旋转溅射装置 2包括环形靶柱21和带动环形靶柱21旋转的传动装置，所述环形靶柱21内固定有三个磁钢22，相邻磁钢22面向环形靶柱21的极性相反，所述环形靶柱21内还设置有端部固定块23，所述磁钢22固定于端部固定块23中，所述端部固定块23与环形靶柱21之间设置有轴承，所述环形靶柱21围绕磁钢22转动，所述端部固定块23与环形靶柱21之间构成一密闭的注水腔24，还包括一水循环装置3，所述注水腔24通过水循环管道与水循环装置3连接。

本发明一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统，通过在磁钢22外设置有围绕其不断转动的环形靶柱21，因此在溅射时不会在靶的某个固定位置产生刻蚀，能均匀利用靶柱，避免由于不规则刻蚀所造成的峰值放电而让膜层出现打弧坑的现象，有效降低 LCD低盒厚产品的不良率；另外，由于在溅射过程中会产生高温，本发明通过在环形靶柱21中的注水腔24注入来自水循环装置3的循环水，能不断为环形靶柱21降温，提高系统的稳定性和耐用性。