[实用新型]具有预错位栅孔离子引出栅极板的离子源有效

专利信息
申请号: 201720336529.X 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN206672889U 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 刘杰;杨树柏 申请(专利权)人: 上海伟钊光学科技股份有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201822*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 错位 离子 引出 栅极 离子源
【权利要求书】:

1.具有栅孔板离子引出系统的离子源,其特征在于采用了具有内外侧栅孔板对应孔开孔位置预错位的凸曲面栅孔板组,这种预错位栅孔板组中,外侧栅孔板与内侧栅孔板上的开孔一一对应,但相对应孔在外侧栅孔板上的开孔位置比在内侧栅孔板上的开孔位置略远离轴线。

2.如权利要求1所述的离子源,其特征在于离子引出系统的内侧栅孔板指考夫曼离子源的屏极栅孔板,外侧栅孔板指考夫曼离子源的加速极栅孔板。

3.如权利要求1所述的离子源,其特征在于离子引出系统的内侧栅孔板指射频离子源的屏极栅孔板,外侧栅孔板指射频离子源的加速极栅孔板。

4.如权利要求1所述的离子源,其特征在于离子引出系统的内侧栅孔板指射频离子源的加速极栅孔板,外侧栅孔板指射频离子源的抑制极栅孔板。

5.如权利要求1所述的离子源,其特征在于离子引出系统的内外栅孔板对应孔的开孔位置的预错位,根据栅孔板的口径、栅孔直径和凸曲面形状设计,从几微米到几百微米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海伟钊光学科技股份有限公司,未经上海伟钊光学科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720336529.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top