[实用新型]浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机

权利要求书

1.一种浸没式光刻机基底台系统，位于浸液系统下方，所述浸液系统维持浸没液体，其特征在于，所述浸没式光刻机基底台系统包括两个或两个以上用于承载基底的分动台，所述分动台中的一个或多个的侧面固定有伸缩桥装置，当所述伸缩桥装置伸展时，所述伸缩桥装置将两个所述分动台的侧边皆接合，使所述浸没液体从一个分动台上转移至另一个分动台上。

2.如权利要求1所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩桥装置伸展时，所述伸缩桥装置的表面与所述分动台的台面位于同一个平面。

3.如权利要求2所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩桥装置为伸缩板结构，所述伸缩桥装置通过铰链固定在所述分动台的侧面。

4.如权利要求3所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，每个所述伸缩桥装置与其铰接固定的分动台的侧边之间设置有密封条。

5.如权利要求2所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩桥装置由若干个伸缩板主体相互铰接形成。

6.如权利要求2所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩桥装置由两个分伸缩桥装置组成，两个所述分伸缩桥装置分别设置在两个所述分动台相对的侧面。

7.如权利要求5所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩板主体间设置有密封条。

8.如权利要求3所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，每个所述分动台上还设置有用于驱动所述伸缩桥装置伸缩的驱动装置。

9.如权利要求8所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述驱动装置包括动力气缸。

10.如权利要求8所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述驱动装置、所述铰链与所述伸缩桥装置组成曲柄滑块机构。

11.如权利要求2所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述伸缩桥装置的宽度大于所述浸没液体形成的浸没液场的直径。

12.如权利要求2所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，任一所述分动台从下至上包括一粗动台和跟随所述粗动台运动的微动台，所述伸缩桥装置设置在所述微动台侧面，所述伸缩桥装置伸长至与另一个分动台的微动台的侧边接合时，所述伸缩桥装置的表面与所述微动台的台面位于同一平面。

13.如权利要求12所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述微动台与所述粗动台之间为磁悬浮结构或者气浮结构。

14.如权利要求12所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述粗动台上设置有防撞模块，用于防止与另一个分动台的粗动台相撞。

15.如权利要求12所述的浸没式光刻机基底台系统，其特征在于，所述微动台的侧面还固定有长条镜，所述长条镜所在的高度小于所述伸缩桥装置所在的高度。

16.一种浸没式光刻机，其特征在于，包括如权利要求1～15中任意一项所述的浸没式光刻机基底台系统。