[实用新型]一种模具的定位结构有效
申请号: | 201720343283.9 | 申请日: | 2017-04-02 |
公开(公告)号: | CN206855890U | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 刘先德 | 申请(专利权)人: | 长沙县奥得力模具有限公司 |
主分类号: | B29C45/26 | 分类号: | B29C45/26 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 410135 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模具 定位 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及模具技术领域,更具体地说,特别涉及一种模具的定位结构。
背景技术
一般注塑模具都有导柱和导套,被作为导向机构适用,不能作为防止动、定模产生错位的结构;由于模具在成型时都需要承受一定的注射压力,会使动、定模产生错位。特别是在注射成型精度要求高的大型、薄壁、深腔塑件时。为了防止动、定模相互之间发生错位,就需要设计一种结构简单、安装和使用方便的模具定位结构。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种结构简单、安装和使用方便的模具的定位结构。
为了达到上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种模具的定位结构,包括动模、定模,连接在动模和定模之间的导向柱,所述动模下端设有模腔,所述定模上端设有与模腔相对应的凸模,其还包括安装于动模和定模之间的滑块装置,所述滑块装置包括上滑块、下滑块和碟簧,所述上滑块安装于动模的下端,所述定模的上端设有用于安装下滑块的下滑块固定腔,所述碟簧设于下滑块的下端与下滑块固定腔之间,所述下滑块与上滑块相对应,所述上滑块的下表面以及下滑块的上表面均设有倾斜角度一致的倾斜面。
进一步地,所述上滑块和下滑块的数量均为两个,两个上滑块对称设置在模腔的两侧,两个下滑块对称设置在凸模的两侧。
进一步地,所述上滑块的下端倾斜面上设有倾斜的导向槽,所述下滑块的上表面宽度与导向槽的宽度一致,所述下滑块的上表面设于导向槽内。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:本实用新型一方面采用导向柱对动模和定模进行导向,另一方面采用滑块装置动模和定模进行定位,可以防止动、定模相互之间发生错位,且结构简单、使用方便。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型所述模具的定位结构的结构示意图。
图2是本实用新型所述模具的定位结构中上滑块的侧面结构示意图。
图3是本实用新型所述模具的定位结构中上滑块的俯视结构示意图。
附图标记说明:1、动模,2、定模,3、导向柱,4、模腔,5、凸模,6、上滑块,7、下滑块固定腔,8、下滑块,9、碟簧,10、导向槽。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参阅图1所示,本实用新型提供一种模具的定位结构,包括动模1、定模2,连接在动模1和定模2之间的导向柱3,所述动模1下端设有模腔4,所述定模2上端设有与模腔4相对应的凸模5。
本实用新型的主要发明点在于,本实用新型包括安装于动模1和定模2之间的滑块装置,所述滑块装置包括上滑块6、下滑块8和碟簧9,所述上滑块6安装于动模1的下端,所述定模2的上端设有用于安装下滑块8的下滑块固定腔7,所述碟簧9设于下滑块8的下端与下滑块固定腔7之间,所述下滑块8与上滑块6相对应,所述上滑块6的下表面以及下滑块8的上表面均设有倾斜角度一致的倾斜面。
滑块装置在使用时,当动模1向定模2移动时,上滑块6和下滑块8相接触的一瞬间所产生的撞击力可部分通过碟簧9抵消,避免损坏上滑块6或下滑块8,在次过程中上滑块6和下滑块8相配合可使动模1和定模2之间不发生错位,提高精度。
所述上滑块6和下滑块8的数量均为两个,两个上滑块6对称设置在模腔4的两侧,两个下滑块8对称设置在凸模5的两侧,这样可以提高精度。
参阅图2和图3所示,所述上滑块6的下端倾斜面上设有倾斜的导向槽10,所述下滑块8的上表面宽度与导向槽10的宽度一致,所述下滑块8的上表面设于导向槽10内。即在使用时,导向槽10可限制下滑块8发生两侧的偏转,使下滑块8只有一个倾斜方向的自由度,更进一步提高精度。
本实用新型一方面采用导向柱对动模和定模进行导向,另一方面采用滑块装置动模和定模进行定位,可以防止动、定模相互之间发生错位,且结构简单、使用方便。
虽然结合附图描述了本实用新型的实施方式,但是专利所有者可以在所附权利要求的范围之内做出各种变形或修改,只要不超过本实用新型的权利要求所描述的保护范围,都应当在本实用新型的保护范围之内。
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