[实用新型]一种用于辉光放电质谱仪的样品架有效

专利信息
申请号: 201720354055.1 申请日: 2017-04-06
公开(公告)号: CN206804587U 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 郭晶;石晶晶;丁潇;石潇;张锋;丁蔡辰;范录 申请(专利权)人: 南通泰德电子材料科技有限公司
主分类号: G01N27/68 分类号: G01N27/68
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226500 江苏省南通市如皋*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 辉光 放电 质谱仪 样品
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及辉光放电质谱仪技术领域,尤其涉及一种用于辉光放电质谱仪的样品架。

背景技术

辉光放电质谱仪是一种能对固体导电样品直接进行化学成分分析的仪器,其分析原理是在一定条件下通过在固体样品表面进行辉光放电使被分析元素形成离子,通过后续的质谱仪对元素离子进行检测来进行定量和半定量分析。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于辉光放电质谱仪的样品架。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种用于辉光放电质谱仪的样品架,包括阀体、样品架和支撑圈,所述样品架设置在阀体的顶部,所述样品架对应阀体的中心设置有放电孔,所述样品架对应放电孔设置有样品腔,所述样品腔内设置有支撑装置,所述支撑圈固定设置在阀体的底部,所述支撑圈的内部设置有延长圈。

优选地,所述放电孔的内部直径为1.5-1.8cm。便于辉光放电质谱仪对应位于样品腔内的样品放电处理。

优选地,所述样品腔的内部直径为10-15cm。便于将尺寸不同的样品放置在样品腔内,提高本装置的适用范围。

优选地,所述支撑装置包括滑槽和移动片,所述移动片通过滑槽在样品腔内滑动连接。在样品的内部直径小于放电孔内的直径时,通过移动片在滑槽上移动至放电孔的上方,将样品放置通过移动片夹持垫放。

优选地,所述支撑装置的顶部与样品腔内在同一平面。便于样品腔内放置样品的平衡度。

优选地,所述支撑圈与延长圈为密实性挡圈。避免延长圈影响辉光放电质谱仪对样品腔内样品放电处理。

本实用新型中,通过延长圈和支撑圈调节阀体位于辉光放电质谱仪放电的高度,将需要处理的样品放置在样品架上的样品腔内,在样品的内部直径小于放电孔内的直径时,通过移动片在滑槽上移动至放电孔的上方,将样品放置通过移动片夹持垫放,便于放电孔对样品放电处理,提高本装置的适用范围。该辉光放电质谱仪的样品架,结构简单,操作方便,有效提高本装置的适用范围。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种用于辉光放电质谱仪的样品架的结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种用于辉光放电质谱仪的样品架的俯视图;

图3为本实用新型提出的一种用于辉光放电质谱仪的样品架的仰视图。

图中:1阀体;2样品架;21放电孔;22样品腔;23支撑装置;231滑槽;232移动片;3支撑圈;31延长圈。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-3,一种用于辉光放电质谱仪的样品架,包括阀体1、样品架2和支撑圈3,所述样品架2设置在阀体1的顶部,所述样品架2对应阀体1的中心设置有放电孔21,所述放电孔21的内部直径为1.5-1.8cm。便于辉光放电质谱仪对应位于样品腔22内的样品放电处理。所述样品架2对应放电孔21设置有样品腔22,所述样品腔22的内部直径为10-15cm。便于将尺寸不同的样品放置在样品腔22内,提高本装置的适用范围。所述样品腔22内设置有支撑装置23,所述支撑装置23包括滑槽231和移动片232,所述移动片232通过滑槽231在样品腔22内滑动连接。在样品的内部直径小于放电孔21内的直径时,通过移动片232在滑槽231上移动至放电孔21的上方,将样品放置通过移动片232夹持垫放。所述支撑装置23的顶部与样品腔22内在同一平面。便于样品腔22内放置样品的平衡度。所述支撑圈3固定设置在阀体1的底部,所述支撑圈3的内部设置有延长圈31。所述支撑圈3与延长圈31为密实性挡圈。避免延长圈31影响辉光放电质谱仪对样品腔22内样品放电处理。

本实用新型中,通过延长圈31和支撑圈3调节阀体1位于辉光放电质谱仪放电的高度,将需要处理的样品放置在样品架2上的样品腔22内,在样品的内部直径小于放电孔21内的直径时,通过移动片232在滑槽231上移动至放电孔21的上方,将样品放置通过移动片232夹持垫放,便于放电孔21对样品放电处理,提高本装置的适用范围。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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