[实用新型]一种用于两个旋光器组装的磁块有效

专利信息
申请号: 201720365711.8 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN207051529U 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 秦明海;蒋延标;王正兴;陈雷华 申请(专利权)人: 苏州东辉光学有限公司
主分类号: G02B6/27 分类号: G02B6/27
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司44214 代理人: 关家强,吴伟文
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 两个 旋光器 组装
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及光学元件加工领域,具体涉及一种用于两个旋光器组装的便捷装置。

背景技术

在隔离器、环形器、梳状滤波器等一些无缘器件中会同时用到2个并行的旋光元件,常规做法是用两个独立的旋光器并行组装。但这样的话,由于在产品内放置两个旋光器导致产品体积很难做小,并且旋光器有很强的磁场,两个独立的旋光器并行靠拢组装时磁场排斥力很大,组装困难;这种方式导致的产品材料、工时成本都比较高。并且在这种方法中存在如下问题:(1)旋光器磁块一般是圆环状,放入法拉第旋光器时比较困难,效率低;(2)两个独立的旋光器并行组装时,由于有磁场排斥力,比较困难,一般需要借助第三个元件来固定这两个旋光器,在磁场排斥力作用下,产品长期可靠性不好。

因此为了方便隔离器、环形器、梳状滤波器等器件中的旋光元件的放置,现有技术中急需对产品结构进行改进或增加辅助部件,希望能解决上述不足。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足,本实用新型的主要目的是提供一种用于两个旋光器组装的山字型磁块,该磁块能实现两个旋光器并行组装,磁块体积小,组装时不存在磁场排斥力,组装方便高效;并且可以将光学产品体积做到更小。

为实现上述目的,本实用新型公开的技术方案是:一种用于两个旋光器组装的磁块,所述磁块呈山字型,所述山字型磁块上设有两个凹槽,所述两个凹槽的空间均能够放置1个旋光器;所述两个凹槽内的磁场方向是相互平行的;所述山字型磁块的两个凹槽之间设有柱状挡板结构,该结构的厚度在0.3-1.5cm之间;所述山字型磁块的高度是在0.8-2.5cm之间;所述山字型磁块的长度在2.5-4.5cm之间。

优选的,所述磁块的厚度是在0.6-1.5cm之间。

本实用新型的有益效果是:本实用新型设计的磁块上有两个凹槽,两个凹槽内的磁场方向是平行的,分别放入2个法拉第旋转片之后即是2个旋光器,实现了2个独立旋光器并行组装的功能,这样的磁块体积小,组装时不存储磁场排斥力,组装方便高效;通过本实用新型的磁块可以将光学产品体积做到更小。

附图说明

图1是本实用新型磁块一较佳实施例的结构示意图;

图2是本实用新型磁块中未放入旋光器时的结构示意图;

图3是图1的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参考附图1-3,本实用新型实施例包括:

实施例1:一种用于两个旋光器组装的磁块1,磁块1呈山字型,所述山字型磁块上设有两个凹槽:凹槽10与凹槽11;两个凹槽的空间均能够放置1个旋光器;凹槽10与凹槽11 的磁场方向是相互平行的;该山字型磁块的凹槽10与凹槽11之间设有柱状挡板结构12,该柱状挡板结构12的厚度b在0.3-1.5cm之间;所述山字型磁块的高度是在0.8-2.5cm之间;所述山字型磁块的长度L在2.5-4.5cm之间。

实施例2:本实施例与实施例1的不同之处在于,本实施例中,磁块1的厚度是在0.6-1.5 cm之间。

实施例3:本实施例与实施例1的不同之处在于,本实施例中,磁块1的凹槽10内放入旋光器3,凹槽11内放入旋光器2。

实施例4:一种用于两个旋光器组装的磁块1,磁块1呈山字型,所述山字型磁块上设有两个凹槽:凹槽10与凹槽11;两个凹槽的空间均能够放置1个旋光器;凹槽10与凹槽11 的磁场方向是相互平行的;该山字型磁块的凹槽10与凹槽11之间设有柱状挡板结构12,该柱状挡板结构12的厚度b在0.5-1.5cm之间;所述山字型磁块的高度是在1-2cm之间;所述山字型磁块的长度L在2-4cm之间。本实施例中,磁块1的厚度是在0.8-1.2cm之间。

实施例5:一种用于两个旋光器组装的磁块1,磁块1呈山字型,所述山字型磁块上设有两个凹槽:凹槽10与凹槽11;两个凹槽的空间均能够放置1个旋光器;凹槽10与凹槽11 的磁场方向是相互平行的;该山字型磁块的凹槽10与凹槽11之间设有柱状挡板结构12,该柱状挡板结构12的厚度b是1.5cm;所述山字型磁块的高度是2cm;所述山字型磁块的长度L是4cm。本实施例中,磁块1的厚度是1.2cm。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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