[实用新型]旋干机的反应槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及晶片加工技术领域，尤其是一种旋干机的反应槽。

背景技术

旋干机利用旋转离心力的方式进行去离子水冲洗、热氮气烘干，去离子水电阻率监控、氮气加温、防静电控制以及系统洁净化处理来达到高洁净度的片子清洗效果。设备由主机、相互独立的工作腔体、片架载体、去离子水、氮气控制系统，以及PLC控制和操作系统组成。

世界第一台旋转冲洗甩干机1979年由美国SEMITOOL公司推出。SEMITOOL的STI-S系列机型代表了该类设备的最高水平,最大可适应12英寸规格工艺流片。近几年国外该类设备朝着整合清洗功能，采纳新技术，新工艺的方向发展。国内在该技术领域与国外相比差距十分明显，主要是配套能力和加工工艺方面的问题。

国内现有的旋干机在运转中所产生的振动，容易造成晶片的破片和夹片，甚至影响到邻近机台的运作；另外，旋干机在运转中产生的微尘和水气也容易进入反应槽内，影响晶片的质量。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术中之不足，提供一种旋干机的反应槽。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种旋干机的反应槽，包括圆筒形的反应槽本体，所述反应槽本体的一端开口，另一端连接有端板，反应槽本体内设置有转轴和套设在转轴上的转子，反应槽本体开口处连接有视窗盖，所述端板的中间开设有供转轴末端穿出的通孔，端板外侧通过支架组件连接有马达，所述马达的输出端与转轴末端联接，转轴末端与马达输出端的连接处设有磁密封组件，所述磁密封组件包括依次套设在转轴上的第一O型圈、磁性轴承、第一磁性轴承套、第二密封圈、第二磁性轴承套和磁性环；所述反应槽本体的外侧壁上安装有反应槽支撑架和加热器，所述反应槽支撑架固定在机台座上，所述机台座还连接支架组件，所述支架组件与机台座的连接处设置有避震垫。

进一步地，所述转轴的一端具有封板，所述封板安装在转子的上端面上，转轴穿过转子的下端面。

进一步地，所述支架组件包括上支架板、下支架板和位于上述两者之间的固定支柱，所述上支架板与下支架板上分别开设有供马达的两端部伸出的通孔，所述马达的端部与上述通孔之间依次设置有密封圈和碗形密封件。

更进一步地，所述马达安装在上支架板和下支架板之间，并通过固定支柱支撑，所述下支架板的外表面上连接有开关电源。

更进一步地，所述下支架板通过螺栓连接至机台座上。

进一步地，所述加热器的外表面上设置有加热器盖，所述加热器盖通过螺栓连接至反应槽本体的外侧壁。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的转轴和转子通过双轴动平衡校正，可以确保旋转的稳定性，马达的支架组件与机台座的连接处设置有避震垫，可将振动量抑制至最低，转轴末端与马达输出端的连接处设磁密封组件，在转动时中可将微尘及水气阻绝，可避免机构运作时产生的微尘进入反应槽本体内，避免晶片受到损伤。

附图说明

下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

图中：1.反应槽本体，2.端板，3.转轴，4.转子，5.视窗盖，6.马达，7.第一O型圈，8.磁性轴承，9.第一磁性轴承套，10.第二密封圈，11.第二磁性轴承套，12.磁性环，13.反应槽支撑架，14.加热器，15.机台座，16.避震垫，17.上支架板，18.下支架板，19.固定支柱，20.密封圈，21.碗形密封件，22.开关电源，23.加热器盖，3-1.封板。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示的一种旋干机的反应槽，包括圆筒形的反应槽本体1，反应槽本体1的一端开口，另一端连接有端板2，反应槽本体1内设置有转轴3和套设在转轴3上的转子4，反应槽本体1开口处连接有视窗盖5，端板2的中间开设有供转轴3末端穿出的通孔，端板2外侧通过支架组件连接有马达6，马达6的输出端与转轴3末端联接，转轴3末端与马达6输出端的连接处设有磁密封组件，磁密封组件包括依次套设在转轴3上的第一O型圈7、磁性轴承8、第一磁性轴承套9、第二密封圈10、第二磁性轴承套11和磁性环12；反应槽本体1的外侧壁上安装有反应槽支撑架13和加热器14，反应槽支撑架13固定在机台座15上，机台座15还连接支架组件，支架组件与机台座15的连接处设置有避震垫16。