[实用新型]化学机械抛光终点检测装置

权利要求书

1.一种化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置与化学机械抛光平台配合使用，所述化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，所述装置包括：

平面反射镜；

搭载所述平面反射镜的转轴，所述转轴用于调整所述平面反射镜的角度；

光发射模块，用于发出激光线，所述激光线经由所述平面反射镜通过所述窗口照射到所述抛光盘上的晶圆表面；

光检测模块，用于接收经由所述窗口接收所述晶圆的反射光线，以根据所述反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述光发射模块为一字线激光器，所述一字线激光器用于在距离所述一字线激光器的预设距离上提供预设长度的激光线。

3.如权利要求2所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述一字线激光器发出的激光线与水平面平行。

4.如权利要求2所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述预设长度大于或者等于10毫米，且小于或者等于15毫米。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置还包括：

电路模块，与所述光检测模块相连，用于向所述光检测模块供电。

6.如权利要求5所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置采用双层设计结构，所述平面反射镜、所述转轴、所述光发射模块和所述光检测模块设置在第一层中，所述电路模块设置在第二层，所述第一层和所述第二层之间设置有薄隔板。

7.如权利要求1所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置还包括：

锁定部件，所述锁定部件用于在通过所述转轴将所述平面反射镜调整到预设角度时，锁定所述转轴，以固定所述平面反射镜的角度。

8.如权利要求1-7任一项所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述光检测模块为光采集传感器。

9.如权利要求1-7任一项所述的化学机械抛光终点检测装置，其特征在于，所述装置沿着所述抛光盘的半径方向放置。