[实用新型]一种稻草人形N电极及垂直结构LED芯片有效

专利信息
申请号: 201720392713.6 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN207282517U 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 李国强;张云鹏;张子辰 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司44245 代理人: 陈文姬
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 稻草 人形 电极 垂直 结构 led 芯片
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及LED制造领域,特别涉及一种稻草人形N电极及垂直结构LED芯片。

背景技术

随着LED在照明领域的逐步应用,市场对白光LED光效的要求越来越高,GaN基垂直结构LED具有良好的散热能力,能够承受大电流注入,这样一个垂直结构LED芯片可以相当于几个正装结构芯片,折合成本只有正装结构的几分之一。因此,GaN基垂直结构LED是市场所向,是半导体照明发展的必然趋势。与传统的平面结构LED相比,垂直结构LED具有许多优点:垂直结构LED两个电极分别在LED的两侧,电流几乎全部垂直流过外延层,没有横向流动的电流,电流分布均匀,产生的热量减少;采用键合与剥离的方法将导热不好的蓝宝石衬底去除,换成导电性好并且具有高热导率的衬底,可有效地散热;n-GaN层为出光面,该层具有一定的厚度,便于制作表面微结构,以提高光提取效率。总之,与传统平面结构相比,垂直结构在出光、散热等方面具有明显的优势。

随着半导体技术的高速发展,LED的内部量子效率能达到90%以上,而外部量子效率的提高并不显著,受到诸多因素的影响,如LED结构,电极形状,电极材料,电流扩展层厚度等,成为制约LED发光效率提高的主导因素。相对于其他提高LED亮度的方法(如高反射膜,衬底剥离,表面粗化等)而言,最易操作的是对芯片的电极形状进行优化,电极形状对光输出影响很大,如果电流扩散不充分、不均匀,会导致出光减少,通过合理设计电极的形状可以提高LED的发光效率。

理论上,在离电极越远的地方,电流越小,亮度越低。对于现有垂直电极结构技术,传统认为电极形状为“十”字形或“米”字形状的LED芯片的I-V性能最好。但“十”字形或“米”字形电极在芯片中心部分,由于电极比较集中,电流也相对比较集中,这样导致LED电流分布不够均匀,尤其是到台面的边缘部分,电流分布极不均匀,使得边缘部分的亮度很小。在中心圆形电极周围及插指附近,电流拥挤,在芯片边缘部分,电流小。电流趋势从中间到边缘越来越小,亮度也是越来越弱。

一般在制作垂直结构LED时,通常使用金属银作为反射层,但是由于Ag的易扩散,会制作一层电流阻挡层(barrier)包裹住反射层,每一个芯片周围会有大概5μm~10μm区域没有反射层(如图1),在图1中,反射层20被电流阻挡层10包围,由于反射层20用于反射光线,而阻挡层10由于材料限制,反射光线极弱,导致该区域反射光线会有很大部分损失,而在蒸镀上一般的“十”字形或“米”字形N电极后,此区域电流分布也不均匀,对出光贡献也大大减小。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺点与不足,本实用新型的目的在于提供一种稻草人形N电极,很大程度上改善了传统米字型、十字型N电极电流分布不均,吸光严重的问题。

本实用新型的另一目的在于提供一种垂直结构LED芯片,克服了横向结构LED芯片的电流拥挤的缺点,极大的改善了电流在芯片内传输的均匀性。

本实用新型的目的通过以下技术方案实现:

一种稻草人形N电极,包括插指和焊盘;所述焊盘为长方形;所述插指由中心区域插指及边缘多边形插指组成;

所述边缘多边形插指同时为左右对称、上下对称结构;

所述中心区域插指由一根垂直插指和两根平行插指组成;所述中心区域插指和焊盘相连组成稻草人形插指,所述稻草人形插指位于边缘多边形插指内部,所述边缘多边形插指与焊盘顶部长边相连,与垂直插指底部相连;

所述稻草人形插指整体呈左右对称结构,所述垂直插指位于边缘多边形插指的左右对称轴上,顶端与焊盘相接,并与焊盘长边垂直,底端与边缘多边形插指相接;所述两根平行插指相互平行,分别位于边缘多边形插指的上下对称轴两侧,所述两根平行插指到上下对称轴的距离相等;所述两根平行插指分别与垂直插指垂直相交,其长边与焊盘长边平行。

所述边缘多边形插指为正方形插指或八边形插指。

所述插指的宽度范围为4μm~11μm。

所述焊盘的长边边长范围是50μm-100μm,短边边长范围是30um-80um。

一种垂直结构LED芯片,包括所述的稻草人形N电极。

所述的垂直结构LED芯片,由下至上依次包括p电极保护层、反射层、电流阻挡层、外延层及稻草人形N电极,所述电流阻挡层的形状与稻草人形N电极的形状构成相似图形,所述流阻挡层的尺寸比稻草人形N电极的尺寸大18%~25%。

所述外延层由下至上依次包括P-GaN、量子阱和N-GaN。

所述p电极保护层由下至上依次包括种子层、键合层、掺杂硅衬底层、防氧化层。

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