[实用新型]一种等离子体氧化抛光系统

权利要求书

1.一种等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述系统包括氦气罐（1），所述氦气罐（1）通过气管连接水瓶（3），所述接水瓶（3）通过气管连通抛光工作室，所述抛光工作室包括水平设置的旋转台（7），所述旋转台（7）上设置有抛光块（6），所述抛光块（6）的上表面上放置样品（8），所述样品（8）上方固定连接旋转电机（5），所述旋转台（7）的上表面还连接电极（9），所述旋转台（7）和电极（9）分别通过导线连接手动匹配器（11），所述手动匹配器（11）连接射频电源（12）。

2.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述氦气罐（1）和水瓶（3）之间设有流量计（2）。

3.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述接水瓶（3）与抛光工作室之间安装有露点仪（4）。

4.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述旋转台（7）周围安装有玻璃罩（10）。

5.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述抛光块（6）与电极（9）设置在旋转台（7）上相互对称的位置上。

6.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述样品（8）为RB-SiC。

7.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述旋转台（7）为二维电动平台。

8.根据权利要求1所述的等离子体氧化抛光系统，其特征在于，所述抛光块（6）为CeO₂。