[实用新型]阵列测量装置及阵列定位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电设备制造技术领域，特别涉及一种阵列测量装置及阵列定位装置。

背景技术

在阵列的工艺制作中，矩阵的制程会使用到很多反应过程中环境为真空的真空反应装置，若阵列基板在真空反应装置的制造过程中发生开裂或破损等事故，处置起来非常困难，而且造成很大的经济损失，所以，反应前确保阵列基板在真空反应装置中保持正确的位置十分重要，并且需要经常对位置校准。

现有技术中对阵列基板在真空反应装置中的位置采用钢尺进行量测和比较，但由于钢尺会与阵列基板发生碰触，阵列基板的材质为玻璃，钢尺碰触很容易造成阵列基板的破碎等，而且操作不便；另外，由于钢尺的刻度最大精度为毫米级，阵列基板与真空反应装置之间的距离也在毫米级之间，因此通过钢尺读取存在较大的误差。

因此，需要设计一种使用简便的阵列测量装置及阵列定位装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种阵列测量装置及阵列定位装置，以解决现有的阵列测量装置使用不方便的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种阵列测量装置，所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置，所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置，其中：

所述镜筒装置具有第一端面和第二端面，所述目镜装置靠近所述第一端面，所述目镜装置包括刻度标记，所述透镜装置靠近所述第二端面，所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间，所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述刻度标记为“十”字形刻度标记，所述刻度标记包括一中心点和相交于所述中心点的4条刻度线，所述中心点位于所述目镜装置的中心位置，所述各个刻度线相互垂直或与其他刻度线的反向延长线重合。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述第二端面外侧的物体的图像投射到所述目镜装置上。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述被测阵列基板的一顶角的图像投射到所述目镜装置上，且所述顶角与所述中心点重合，所述顶角的两个侧边与所述刻度线或所述刻度线的反向延长线重合。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述投射到所述目镜装置上的物体的图像经过所述透镜装置后放大2倍～100倍。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述刻度线的读数精度为0.01毫米～0.1毫米。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述第二端面上覆盖一透明遮板，所述透明遮板的材料为弹性材料。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述阵列测量装置还包括照明开关，所述照明开关控制所述照明装置的闭合和断开。

可选的，在所述的阵列测量装置中，所述阵列基板上还安装有多个传感器，所述阵列测量装置还测量所述阵列基板与每个所述传感器之间的位置关系。

本实用新型还提供一种阵列定位装置，所述阵列定位装置包括阵列测量装置、阵列基板和容置所述阵列基板的真空反应装置，其中：

所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置；

所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置，其中：

所述镜筒装置具有第一端面和第二端面，所述目镜装置靠近所述第一端面，所述目镜装置包括刻度标记，所述透镜装置靠近所述第二端面，所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间，所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

在本实用新型提供的阵列测量装置及阵列定位装置中，通过所述镜筒装置靠近透镜装置的端面接触被测阵列基板的某一顶角，可通过所述目镜装置观测到阵列基板与真空反应装置投射到目镜装置上的图像，并根据目镜装置上的刻度标记读取阵列基板与真空反应装置之间的距离，从而可以对阵列基板与真空反应装置的位置关系进行测量，该技术方案仅通过镜头间的投影进行测量，无需钢尺在阵列基板上定位，不会碰坏阵列基板。