[实用新型]聚合物真空镀膜机

权利要求书

1.一种聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述聚合物真空镀膜机包括：真空箱体、镀膜鼓、挡板、调压器以及蒸发装置；

所述镀膜鼓、挡板以及蒸发装置位于所述真空箱体内部，所述挡板分布于所述镀膜鼓的两侧，所述镀膜鼓部分地自两侧挡板之间的空间伸出，所述蒸发装置于所述镀膜鼓下方，所述蒸发装置与所述镀膜鼓之间的空间形成蒸镀升华空间，所述蒸发装置包括壳体以及设置于所述壳体中的加热器，所述加热器上均匀铺设有聚合物蒸发源，所述调压器与所述加热器电性连接。

2.根据权利要求1所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜鼓与两侧挡板之间具有间隙，所述间隙的尺寸大于所述镀膜鼓上卷绕的基材与基材上镀层的厚度之和。

3.根据权利要求2所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述基材为塑料基材。

4.根据权利要求3所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述塑料基材为PET、CPP以及OPP中的一种。

5.根据权利要求1所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述加热器的蒸发温度为400℃～500℃，所述镀膜鼓为低温镀膜鼓。

6.根据权利要求1所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述调压器控制所述加热器的蒸发温度在所述400℃～500℃之间进行调节。

7.根据权利要求1所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述壳体的顶部开设有蒸发口，所述蒸发口朝向所述蒸镀升华空间设置，所述加热器位于所述壳体的底部。

8.根据权利要求1所述的聚合物真空镀膜机，其特征在于，所述聚合物蒸发源为三聚氰胺蒸发源。