[实用新型]水平无箱造型机仿形砂箱板有效
申请号: | 201720438625.5 | 申请日: | 2017-04-25 |
公开(公告)号: | CN206952104U | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 周道宏;高金华 | 申请(专利权)人: | 安徽新宁装备股份有限公司 |
主分类号: | B22C15/02 | 分类号: | B22C15/02 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司34107 | 代理人: | 张小虹 |
地址: | 242300 安徽省宣城市宁国市宁*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水平 造型机 砂箱 | ||
技术领域
本实用新型属于金属铸造工艺设备的技术领域。更具体地,本实用新型涉及铸造设备中造型机砂箱的结构设计技术。
背景技术
目前,金属铸造造型机中的水平无箱造型技术,因其效率高、污染少,正在逐步得到推广应用。但由于结构原理所限,对于模型高度差较大的造型效果较差。
现有技术中的水平无箱造型机结构和外形大致相似,如图1所示。水平无箱造型机所使用的砂箱底板一般为平面形,如图2所示。
在砂型压缩时,一般压缩比要到30%左右才能压实,但当模型的高度差较大时,平面形的砂箱底板压缩一定行程后,深凹部分的砂型压缩比会比凸出部分低很多,从而导致造型质量差,甚至失败。
实用新型内容
本实用新型提供水平无箱造型机仿形砂箱板,其目的是保证压缩成型的砂型质量。
为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
本实用新型的水平无箱造型机仿形砂箱板,所述的水平无箱造型机包括上砂箱底板、上砂箱框、下砂箱底板、下砂箱框、模具,所述的水平无箱造型机设置与所述的模具的外形相仿的反模。
具体有以下三种技术方案:
1、所述的反模安装在所述的上砂箱底板上;
2、所述的反模安装在所述的下砂箱底板上;
3、所述的反模分别安装在所述的上砂箱底板和下砂箱底板上。
本实用新型采用上述技术方案,通过对造型机砂箱的底板结构进行专门设计,根据模型的轮廓,预先制造一个与模型的轮廓相仿的反模,安装在造型机上砂箱底板上。当砂箱充满型砂后,砂箱底板压缩时,砂箱内各部分的砂型压缩比便较为均匀,从而使挤压成型的砂型质量得到保证。
附图说明
附图内容及图中的标记作简要说明如下:
图1是现有技术中的水平无箱造型机外形结构示意图;
图2是图1所示水平无箱造型机的剖视图;
图3是本实用新型的水平无箱造型机剖视图;
图4是本实用新型涉及的模具外形简图;
图5是与图4所示模具轮廓相仿的反模外形简图。
图中标记为:
1、水平无箱造型机,2、上砂箱底板,3、上砂箱框,4、下砂箱底板,5、下砂箱框,6、模具,7、反模。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
如图2所示,目前使用的水平无箱造型机1上安装有上砂箱底板2、上砂箱框3、下砂箱底板4、下砂箱框5、模具6。
上述现有技术的工作的方式是:
工作时,上砂箱框3和下砂箱框5夹着模具6,与上砂箱底板2和下砂箱底板4分别形成上下砂箱腔体,在充满型砂后,水平无箱造型机1的压缩系统会使上砂箱底板2和下砂箱底板4相向压缩(或单边压缩,模具6随动),从而达到使型砂压缩成型,之后通过脱模、合模等工序,完成造型工作。
如图3、图4和图5示本实用新型的结构,为水平无箱造型机仿形砂箱板,所述的水平无箱造型机1包括上砂箱底板2、上砂箱框3、下砂箱底板4、下砂箱框5、模具6。
为了克服现有技术的缺陷,实现保证压缩成型的砂型质量的发明目的,本实用新型采取的技术方案为:
如图5所示,本实用新型的水平无箱造型机仿形砂箱板,所述的水平无箱造型机1设置与所述的模具6的外形相仿的反模7。
具体有以下三种技术方案:
1、所述的反模7安装在所述的上砂箱底板2上;
2、所述的反模7安装在所述的下砂箱底板4上;
3、所述的反模7安装在所述的上砂箱底板2和下砂箱底板4上。
以上三种技术方案根据需要选择应用。
如图3所示,应用本实用新型的水平无箱造型机1上安装有上砂箱底板2、上砂箱框3、下砂箱底板4、下砂箱框5、模具6和预先按照模具6制造的一个与其外形相仿的反模7,反模7安装在上砂箱底板2上。
其具体的运行方式是:
工作时,上砂箱框3和下砂箱框5夹着模具6,与反模7和下砂箱底板4分别形成上下砂箱腔体,在充满型砂后,水平无箱造型机1的压缩系统会使上砂箱底板2推动反模7和下砂箱底板4相向压缩(或单边压缩,模具6随动),从而达到使型砂压缩成型,之后通过脱模、合模等工序,完成造型工作。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。
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