[实用新型]基于MEMS技术的差压流量传感器有效
申请号: | 201720446896.5 | 申请日: | 2017-04-26 |
公开(公告)号: | CN206818257U | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 王建国;申亚琪 | 申请(专利权)人: | 苏州捷研芯纳米科技有限公司 |
主分类号: | G01F1/38 | 分类号: | G01F1/38 |
代理公司: | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32297 | 代理人: | 陆明耀 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 mems 技术 流量传感器 | ||
1.基于MEMS技术的差压流量传感器,用于低流速流量监测,其特征在于:包括设置于同一外壳(3)的内腔中的MEMS差压传感器芯片封装体(1)及信号处理电路板(2),所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)设置于所述信号处理电路板(2)上并与其连接通信,且所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)的去向压力导压口(11)与信号处理电路板(2)上的通孔(21)共轴以及与所述外壳(3)上的一个导通孔(31)共轴且四周密封连接,所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)的来向压力导压口(12)与外壳(3)上的另一导通孔(31)共轴并四周密封连接;所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)及信号处理电路板(2)通过填充所述外壳(3)的内腔的防水密封层(4)密封固定,所述信号处理电路板(2)上连接引出线缆(5),所述引出线缆(5)延伸到所述外壳(3)和防水密封层(4)外。
2.根据权利要求1所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)包括量程在0-10kPa的硅压阻式差压芯片,其压力应变膜为微米级并采用恒流源或恒压源供电。
3.根据权利要求2所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)与信号处理电路板(2)通过键合线连接通信,所述键合线的弧高度小于60um,且其包覆于防水胶层(6)中。
4.根据权利要求3所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述外壳(3)至少包括探测段(33)及连接段(34),所述MEMS差压传感器芯片封装体(1)位于所述探测段(33)所在的内腔区域,所述连接段(34)用于与流体管道(7)密封连接。
5.根据权利要求4所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述连接段(34)包括一段外螺纹、密封圈(341)及限位凸台(342),所述密封圈(341)位于所述外螺纹的根部并与所述限位凸台(342)的侧壁贴合。
6.根据权利要求4所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述连接段(34)包括两个位于两个导通孔(31)所在表面上且对称的坡面(343),所述坡面(343)的后端设置有防水密封圈(344),所述防水密封圈(344)抵靠于第一凸台(345)的一侧,所述第一凸台(345)的另一侧与第二凸台(346)配合形成一凹槽(347)。
7.根据权利要求1-6任一所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述外壳(3)的内壁上设置有支撑台阶(35),所述支撑台阶(35)与一个导通孔的孔壁配合形成用于放置信号处理电路板(2)的支撑面。
8.根据权利要求7所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:两个所述导通孔(31)为沉孔或台阶状,其内密封设置有导压膜片(8),所述导压膜片(8)密封的区域内填充有传压介质。
9.根据权利要求8所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述防水密封层(4)包括第一灌封层(41)和第二灌封层(42),
所述第一灌封层(41)至少填充所述MEMS差压传感器芯片封装体所在的内腔区域;
所述第二灌封层(42)至少填充所述引出线缆(5)和信号处理电路板(2)连接点到第一灌封层(41)之间的内腔区域。
10.根据权利要求9所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述第一灌封层(41)为纳米复合高分子聚合物材料;所述第二灌封层(42)为硅胶类和/或环氧类胶水。
11.根据权利要求10所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述第二灌封层(42)包括一次灌封层(421)和二次灌封层(422),所述一次灌封层(421)至少覆盖所述信号处理电路板(2)上的信号放大器件(22)和处理芯片(23),所述二次灌封层(422)至少覆盖整个信号处理电路板(2)。
12.根据权利要求11所述的基于MEMS技术的差压流量传感器,其特征在于:所述基于MEMS技术的差压流量传感器的量程在0.1-30L/min。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州捷研芯纳米科技有限公司,未经苏州捷研芯纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720446896.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:养殖舍氨气挥发量检测装置
- 下一篇:一种能够自清洗的电磁流量计